[发明专利]用于将光束耦合到箔中的方法和设备

权利要求书

1.一种用于将光束（L）耦合至具有沿轴（x）延伸的入口窗口（W）的箔（110）中的方法，所述方法包括所述光束（L）至所述入口窗口（W）上的散光聚焦，使得：

-焦线（Fx）沿所述入口窗口（W）的轴（x）延伸，

-第二焦线（Fy）设置在所述箔（110）内部，

-所述光束（L）在所述箔（110）内部至少全内反射一次。

2.一种用于将光束（L）耦合至具有沿轴（x）延伸的矩形或椭圆形入口窗口（W）的透明组件（110）中的方法，所述方法包括所述光束（L）至所述入口窗口（W）上的散光聚焦，使得焦线（Fx）沿所述入口窗口（W）的所述轴（x）延伸。

3.一种光学设备（150），包括：

a）容纳空间，具有沿轴（x）延伸的矩形或椭圆形入口窗口（W）的透明组件（110）布置在所述容纳空间处或能够布置在所述容纳空间处；

b）聚焦光学器件（151），用于将光束（L）散光聚焦至所述入口窗口（W）上，使得焦线（Fx）沿所述入口窗口（W）的所述轴（x）延伸。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，所述散光光束（L）的第二焦线（Fy）设置在所述透明组件（110）内部。

5.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，所述透明组件（110）是材料板或片，特别是厚度在约50μm与约1000μm之间的箔。

6.根据权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，所述光束（L）在所述透明组件（110）内部至少全内反射一次。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，所述透明组件（110）包括具有探测区域（112）的表面（111），所述光束（L）在所述探测区域（112）处全内反射。

8.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，提供散光透镜（151），用于所述光束（L）的聚焦。

9.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，提供光源（152），用于生成所述光束（L）。

10.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，提供光探测器（153），用于探测离开所述透明组件（110）的光，特别是源自所述入耦合光束（L）的光。

11.根据权利要求10所述的方法或光学设备（150），

其特征在于，提供评估单元（154），用于处理所述光探测器（153）的信号。

12.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，或根据权利要求3所述的光学设备（150），

其特征在于，提供磁场生成器（155），用于在所述透明组件（110）内部和/或附近生成磁场。

13.根据权利要求3至12中的任一项所述的光学设备用于分子诊断、生物样品分析、化学样品分析、食物分析、和/或法医分析的用途。