[发明专利]阴图制版平版印刷板前体在审
申请号: | 201280046135.0 | 申请日: | 2012-09-14 |
公开(公告)号: | CN103814330A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | D.鲍尔比诺;H.鲍曼;U.德瓦斯;M.贾雷克;J.R.马茨;C.辛普森 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/029;G03F7/031;G03F7/033;G03F7/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张萍;李炳爱 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制版 平版印刷 板前体 | ||
发明领域
本发明涉及包含独特的红外辐射吸收剂染料的阴图制版平版印刷板前体,所述平版印刷板前体具有高成像速度和改善的货架期。本发明还涉及用于制备平版印刷板的方法。
发明背景
在平版印刷中,在亲水表面上生成称作图像区的受墨区。当用水润湿该表面并施加油墨时,亲水区留住水并拒墨,而受墨区接受油墨并拒水。油墨然后被转移到要在其上复制图像的合适材料的表面上。在某些情况下,油墨可以首先被转移到中间橡皮布,其继而用于转移油墨至要在其上复制图像的材料表面上。
可用于制备平版(或胶版)印刷板的平版印刷板前体通常包含施加在基底的亲水表面上的一个或更多个可成像层(或中间层)。可成像层可包含分散在合适的粘合剂中的一种或更多种辐射敏感组分。在成像后,通过合适的显影剂除去可成像层的曝光区或未曝光区,露出下方的基底亲水表面。如果除去曝光区,则该元件被视为阳图制版。相反,如果除去未曝光区,则该元件被视为阴图制版。在每种情况下,留下的可成像层区域是受墨的,且通过显影法露出的亲水表面的区域接受水或水溶液(通常润版液),并拒墨。
已知“激光直接成像”方法(LDI)使用来自计算机的数字数据直接形成胶版印刷板或印刷电路板,且相比于使用掩模感光膜的先前方法提供多种优势。从使用更有效的激光和改善的可成像组合物及其组分本领域已有相当客观的发展。
已知各种辐射敏感组合物用于阴图制版平版印刷板前体,如例如于美国专利6,309,792(Hauck等人)、6,893,797(Munnelly等人)、6,727,281(Tao等人)、6,899,994(Huang等人)和7,429,445(Munnelly等人)、美国专利申请公布2002/0168494(Nagata等人)、2003/0118939(West等人)和EP公布1,079,276A2(Lifka等人)及1,449,650A2(Goto等人)中所描述。此外,美国专利7,429,445(Munnelly等人)描述了在机可显影的阴图制版平版印刷板前体,其含有各种红外辐射吸收剂。
阴图制版平版印刷板前体通常含有高的量的产生自由基引发剂的化合物以提高成像速度(改善成像敏感度)。以这种方式使用的一些有用的引发剂化合物是具有四芳基硼酸盐抗衡离子(例如四苯基硼酸盐抗衡离子)的碘鎓化合物,如例如描述于美国专利6,645,697(Urano)和WO2008/150441(Yu等人)中。
然而,在此类平版印刷板前体中用作红外辐射吸收剂的很多阳离子花青染料展现出在存在硼酸盐阴离子(其可位于成像配制物中)下结晶的强趋势。这种结晶导致平版印刷板前体中的可成像层组合物的货架期降低。结晶也在生产可成像层配制物期间产生问题。
需要使用阴图制版平版印刷板前体中的含硼酸根离子引发剂组合物来改善成像速度,而无导致显著问题的不期望的结晶。还期望改善成像敏感度(速度)同时解决该问题。
发明概述
本发明提供平版印刷板前体,其包含基底和布置在基底上的可成像层,所述可成像层包含:
自由基可聚合组分、
能够在曝光于成像红外辐射时产生自由基的引发剂组合物、
红外辐射吸收染料、和
聚合物粘合剂,
其中所述红外辐射吸收染料是由下列结构(I)所示的花青染料:
其中:
R1是L-Rx,其中L是单个连接键或硫或氮原子且Rx是包含连接至L或当L是单个连接键时直接连接至所示的次甲基链的碳原子的有机基团,且Rx还包含一个或更多个烯属不饱和的可聚合基团,只要当L是氮原子时,L-Rx表示N(Ra)(Rb),
其中Ra和Rb是与Rx定义相同或不同的基团,
R2和R3各自独立地表示具有1至12个碳原子的有机基团,
R4和R5或者均表示氢原子,或者与它们所键合的碳原子一起包含形成五或六元碳环的碳原子,
R6至R9各自独立地表示氢、或烷基或芳基,且
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