[发明专利]热敏转印记录介质有效

专利信息
申请号: 201280046869.9 申请日: 2012-09-24
公开(公告)号: CN103874584A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 小野靖方;杉下康雄;大和丈仁;伊藤晶彦;鸳海健 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: B41M5/382 分类号: B41M5/382;B32B27/30;B41M5/385;B41M5/388;B41M5/39;B41M5/42
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;王大方
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 热敏 印记 介质
【权利要求书】:

1.一种热敏转印记录介质,其特征在于,

在基材上依次层合形成底涂层及染料层,

所述底涂层是将底涂层形成用涂布液进行涂布、干燥而形成的,所述底涂层形成用涂布液含有聚乙烯吡咯烷酮和基于JIS K 7113测定的抗拉强度为8kg/mm2以上的聚乙烯醇,

所述染料层是将染料层形成用涂布液进行涂布、干燥而形成的,所述染料层形成用涂布液中作为热转移性染料含有蒽醌系化合物。

2.如权利要求1所述的热敏转印记录介质,其特征在于,所述底涂层中聚乙烯醇与聚乙烯吡咯烷酮的以质量基准计的含有比率为聚乙烯醇/聚乙烯吡咯烷酮=4/6~7/3。

3.如权利要求1或2所述的热敏转印记录介质,其特征在于,以将所述底涂层形成用涂布液进行涂布、干燥后残留的固态成分量表示的、所述底涂层干燥后的涂布量为0.05~0.30g/m2

4.一种热敏转印记录介质,其特征在于,

在基材的一面上形成耐热滑性层,在该基材的另一面上依次层合形成底涂层及染料层,

所述底涂层是将底涂层形成用涂布液进行涂布、干燥而形成的,所述底涂层形成用涂布液含有聚乙烯吡咯烷酮和基于JIS K 7113测定的抗拉强度为8kg/mm2以上的聚乙烯醇,

所述染料层是将染料层形成用涂布液进行涂布、干燥而形成的,所述染料层形成用涂布液中作为热转移性染料含有蒽醌系化合物,

所述耐热滑性层的表面粗糙度Ra的平均值α为0.05~0.50μm,并且,在150℃、10分钟的条件下静置后该耐热滑性层的表面粗糙度Ra的平均值β为0.00~0.80μm,

所述平均值α与所述平均值β之差为0.00~0.30μm。

5.如权利要求4所述的热敏转印记录介质,其特征在于,所述底涂层中聚乙烯醇与聚乙烯吡咯烷酮的以质量基准计的含有比率为聚乙烯醇/聚乙烯吡咯烷酮=4/6~7/3。

6.如权利要求4或5所述的热敏转印记录介质,其特征在于,以将所述底涂层形成用涂布液进行涂布、干燥后残留的固态成分量表示的、所述底涂层干燥后的涂布量为0.05~0.30g/m2

7.一种热敏转印记录介质,其特征在于,

所述热敏转印记录介质用于通过热转印在热转印显像片材上形成图像,所述热转印显像片材是在基材上间隔含有水系粘合剂和中空粒子的水系中空粒子层形成有含有水系粘合剂和脱模剂的水系接受层,

所述热敏转印记录介质在基材上依次层合形成底涂层及染料层,

所述底涂层是将底涂层形成用涂布液进行涂布、干燥而形成的,所述底涂层形成用涂布液含有聚乙烯吡咯烷酮和基于JIS K 7113测定的抗拉强度为8kg/mm2以上的聚乙烯醇,

所述染料层是将含有填料粒子和作为热转移性染料的蒽醌系化合物的染料层形成用涂布液进行涂布、干燥而形成的,

所述染料层的三维表面粗糙度SRa为0.15~0.70μm。

8.如权利要求7所述的热敏转印记录介质,其特征在于,所述底涂层中聚乙烯醇与聚乙烯吡咯烷酮的以质量基准计的含有比率为聚乙烯醇/聚乙烯吡咯烷酮=4/6~7/3。

9.如权利要求7或8所述的热敏转印记录介质,其特征在于,以将所述底涂层形成用涂布液进行涂布、干燥后残留的固态成分量表示的、所述底涂层干燥后的涂布量为0.05~0.30g/m2

10.如权利要求7~9中任一项所述的热敏转印记录介质,其特征在于,所述填料粒子的体积平均粒径为0.1~3.0μm。

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