[发明专利]溶解度发生改变的组合物、空穴传输材料组合物和使用了它们的有机电子元件有效

专利信息
申请号: 201280046988.4 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN103827165A 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 舟生重昭;浅野直纪;石塚健一 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;H01L51/42;H01L51/50
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金鲜英;何杨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 溶解度 发生 改变 组合 空穴 传输 材料 使用 它们 有机 电子元件
【权利要求书】:

1.一种组合物,其含有聚合物或低聚物(A)和引发剂(B),通过施加热、光或热和光两者,溶解度发生改变,所述聚合物或低聚物(A)包含具有空穴传输性的重复单元且包含具有或不具有取代基的噻吩基。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中,具有空穴传输性的重复单元包含:选自由包含芳香族胺结构的重复单元和包含咔唑结构的重复单元组成的组中的至少1种重复单元。

3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,聚合物或低聚物(A)具有选自由下述的式(Ia)所示的结构和式(Ib)所示的结构组成的组中的至少1种结构,

[化学式1]

式(Ia)和(Ib)中的R1~R3分别独立地表示氢原子或烷基,R1~R3中的至少1个为氢原子。

4.根据权利要求1~3中的任一项所述的组合物,其中,聚合物或低聚物(A)的末端具有噻吩基。

5.根据权利要求1~4中的任一项所述的组合物,其中,聚合物或低聚物(A)为具有枝化结构且具有大于或等于3个末端的聚合物或低聚物,全部末端中的大于或等于3个末端具有噻吩基。

6.根据权利要求1~5中的任一项所述的组合物,其中,聚合物或低聚物(A)具有选自由下述的式(IIa)所示的结构、式(IIb)所示的结构、式(IIIa)所示的结构和式(IIIb)所示的结构组成的组中的至少1种结构,

[化学式2]

式(IIa)和(IIb)中的R1~R3分别独立地表示氢原子或烷基,R1~R3中的至少1个为氢原子,Ara表示芳烃二基或杂芳烃二基,

[化学式3]

式(IIIa)和(IIIb)中的R1~R3分别独立地表示氢原子或烷基,R1~R3中的至少1个为氢原子,Arb表示芳烃三基或杂芳烃三基。

7.根据权利要求1~6中的任一项所述的组合物,其中,引发剂(B)为氧化剂。

8.根据权利要求1~7中的任一项所述的组合物,其中,引发剂(B)为鎓盐。

9.根据权利要求1~8中的任一项所述的组合物,其中,聚合物或低聚物(A)的重均分子量为1000~1000000。

10.根据权利要求1~9中的任一项所述的组合物,其中,进一步含有溶剂(C)。

11.一种空穴传输材料组合物,其含有权利要求1~10中的任一项所述的组合物。

12.一种油墨组合物,其含有权利要求1~10中的任一项所述的组合物。

13.一种有机层(I),其是通过涂布权利要求1~10中的任一项所述的组合物、权利要求11所述的空穴传输材料组合物或权利要求12所述的油墨组合物而形成的。

14.一种改变权利要求13所述的有机层(I)的溶解度的方法,其具有对前述有机层(I)施加热、光或热和光两者的工序。

15.一种有机层(II),所述有机层(II)具有与权利要求13所述的有机层(I)不同的溶解度,其是通过对前述有机层(I)施加热、光或热和光两者而获得的。

16.一种有机电子元件,其至少具有2个电极和位于前述电极之间的权利要求15所述的有机层(II)。

17.一种有机电致发光元件,其具有阳极、权利要求15所述的有机层(II)、发光层和阴极。

18.一种显示元件,其使用了权利要求17所述的有机电致发光元件。

19.一种照明装置,其使用了权利要求17所述的有机电致发光元件。

20.一种有机光电转换元件,其具有阳极、权利要求15所述的有机层(II)、光电转换层和阴极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成株式会社,未经日立化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280046988.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top