[发明专利]透明导电性涂布膜、透明导电性墨水、及使用其的触控式面板

说明书

技术领域

本发明涉及一种透明导电性涂布膜、透明导电性墨水、及使用其的触控式面板，尤其涉及一种至少含有金属纳米线的透明导电性涂布膜、透明导电性墨水。 

背景技术

从前，对使用金属纳米线的透明导电性涂布膜尝试了各种研究。 

已知金属纳米线因其材质为容易弯曲的金属，进而在其形状方面粗细度为几nm～几百nm而细，纵横比(纤维的长度／粗细度)高且应力容易集中，故整体上具有香蕉状的缓和的曲率，进而具有局部的弯折。 

例如，在专利文献1的[0014]中，揭示有除存在分支的纳米线以外，亦存在刚性低、且弯曲或弯折的线。 

另外，金属纳米线因其比表面积高，故容易产生聚集，难以不产生聚集而使其分散。对于球状的纳米粒子，可于分散剂的存在下利用磨机或超音波等进行强力的分散，但对于金属纳米线，若进行施加有强能量的分散，则存在线受到强应力，而导致线弯折的问题。 

因此，在专利文献2中，虽然是针对碳纳米纤维，但揭示有为了防止碳纳米纤维的弯折，而进行加压处理，并于弹性体中进行混炼，藉此可获得分支或弯折少的碳纳米纤维。 

[现有技术文献] 

[专利文献] 

[专利文献1]日本专利特开2009-70660号公报 

[专利文献2]日本专利特开2011-84844号公报 

发明内容

但是，在专利文献2中，虽然针对碳纳米纤维可获得分支或弯折少的碳纳米纤维，但金属纳米线因强度低，故藉由制备金属纳米线分散液时的脱盐、分散处理步骤时的剪切或涂布膜形成后的加压处理而导致线受到应力，藉此会产生许多弯折。如此，刚性低的金属纳米线因其材质与形状的特征而产生弯折或弯曲。可知该弯折的线越多，越难以获得使表面电阻与雾度值并存的透明导电膜。进而，线径越细，该倾向越显著。 

使用金属纳米线的透明导电性涂布膜存在如下的问题：因存在作为不透明的微粒子的金属纳米线，故难以一面维持高导电性，一面提高透过率或降低雾度值。虽然藉由使线径变细而可期待降低雾度值，但伴随线径减小，弯折的线率增加，因此高导电率与低雾度难以并存。 

本发明是针对此种新发现的课题而完成的发明，其目的在于提供一种可维持高导电性，且与从前相比可维持高导电性并提高透过率、降低雾度值的透明导电性涂布膜与透明导电性墨水、及使用这些的触控式面板。 

为了达成上述目的，本发明是一种透明导电性涂布膜，其至少含有金属纳米线：金属纳米线之中，弯折的线的比例为10％以下，表面电阻为150Q／□以下，雾度值为1.0％以下。 

另外，为了达成上述目的，本发明是一种透明导电性墨水，其至少含有金属纳米线，其特徵为金属纳米线中弯折的线的比例为10％以下，且传导率为1mS／cm以下。 

如此，藉由将金属纳米线之中，弯折的线的比例设为10％以下，可维持高导电性，并提高透过率、降低雾度值。 

再者，本发明中所述的“弯折的线”不是指自然弯曲的线，而是指一条线的1个部位或多个部位具有与该线的其他部分不同的曲率而变形的粒子。具体而言，针对上述具有与其他部分不同的曲率而变形的部分假定为外接圆，将该外接圆的半径(曲率半径)小于150nm且弯曲的线定义为弯折的线。在曲率连续地变化且弯折的情况下，将其曲率半径的最小的部分设为曲率半径。 

再者，藉由弯折少的金属纳米线，可获得低电阻且雾度低的透明导电膜的明确的理由并不清楚，但一般认为其原因在于：因金属原子的排 列在弯折部急遽地变化，故声子(phonon)或电子的散射行为大幅变化。在金属纳米线的成长的机制方面，难以认为线成长过程中的线弯折而成长，一般认为弯折的线是藉由在成长的中途、或自形成线后在制作透明导电膜的过程中线受到局部的应力而产生。线的弯折可在线的成长步骤以后的步骤中在任何阶段产生，尤其在线的脱盐、分散步骤中产生的情况多。一般认为其原因在于：在各步骤，特别是脱盐与分散的步骤中，线受到应力。 

在本发明的透明导电性涂布膜中，较佳为弯折的线的比例为2.5％以下。 

在本发明的透明导电性涂布膜中，可提供透过率为92％以上的透明导电性涂布膜。另外，在本发明的透明导电性涂布膜中，可提供雾度值为0.6％以下的透明导电性涂布膜。