[发明专利]具有芴结构的树脂及光刻用下层膜形成材料无效
申请号: | 201280047440.1 | 申请日: | 2012-09-04 |
公开(公告)号: | CN103827163A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 东原豪;内山直哉;越后雅敏 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C08G61/02 | 分类号: | C08G61/02;C08L65/00;G03F7/11;H01L21/027 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 结构 树脂 光刻 下层 形成 材料 | ||
1.一种树脂,其具有下述通式(1)所示的结构,
通式(1)中,R3和R4各自独立地是苯环或萘环,芴骨架或(二)苯并芴骨架的桥头位的碳原子与其它的芳香环的碳原子键合,芴骨架或(二)苯并芴骨架的芳香环的碳原子与其它的芴骨架或(二)苯并芴骨架的桥头位的碳原子键合。
2.根据权利要求1所述的树脂,其中,所述通式(1)所示的结构为选自由下述通式(2)、通式(3)、通式(4)和通式(5)所示的结构组成的组中的至少一种,
通式(2)中,X各自独立地表示碳原子数为1~10的烷基、碳原子数为6~10的芳基或环己基,p表示0~3的数,A表示0~2的数,R3和R4的定义与所述通式(1)中说明的相同,
通式(3)中,X、p、R3和R4的定义与所述通式(2)中说明的相同,
通式(4)中,Y’各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~10的烷基、碳原子数为6~10的芳基或环己基,Z各自独立地表示碳原子数为1~10的烷基、碳原子数为6~10的芳基或环己基,q表示1~3的数,r表示0~3的数,B表示0~2的数,R3和R4的定义与所述通式(1)中说明的相同,在此,Y’和Z存在多个时,各自可以相同或不同,另外,Y’可以为与树脂内的X、Y’、Z或芳香环形成直接键合的单键,
通式(5)中,Y’、Z、q、r、R3和R4的定义与所述通式(4)中说明的相同。
3.根据权利要求1或2所述的树脂,其中,碳浓度为80质量%以上。
4.一种制造方法,其为权利要求1~3中任一项所述的树脂的制造方法,该制造方法包含使含有下述通式(6)所示的化合物的原料在催化剂的存在下反应的工序,
通式(6)中,R1和R2各自独立地是氢原子或羟基,R1和R2可以一起作为一个取代基,此时是氧原子,R3和R4各自独立地是苯环或萘环。
5.根据权利要求4所述的制造方法,其中,所述催化剂为选自由盐酸、硫酸、磷酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、柠檬酸、富马酸、马来酸、甲酸、对甲苯磺酸、甲磺酸、三氟乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、三氟甲磺酸、苯磺酸、萘磺酸、萘二磺酸、氯化锌、氯化铝、氯化铁、三氟化硼、硅钨酸、磷钨酸、硅钼酸、磷钼酸、氢溴酸和氢氟酸组成的组中的至少一种。
6.根据权利要求4或5所述的制造方法,其中,作为所述原料,还含有选自由下述通式(7)、通式(8)、通式(9)和通式(10)所示的化合物组成的组中的至少一种,
通式(7)中,X、p、A的定义与所述通式(2)中说明的相同,
通式(8)中,X、p的定义与所述通式(2)中说明的相同,
通式(9)中,Y各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~10的烷基、碳原子数为6~10的芳基或环己基,Z、q、r、B的定义与所述通式(4)中说明的相同,
通式(10)中,Y、Z、q、r的定义与所述通式(9)中说明的相同,在此Y和Z存在多个时,各自可以相同或不同。
7.根据权利要求4~6中任一项所述的制造方法,其中,所述通式(6)所示的化合物为选自由芴、芴酮、芴醇、苯并芴、苯并芴酮、苯并芴醇、二苯并芴、二苯并芴酮和二苯并芴醇组成的组中的至少一种。
8.根据权利要求6或7所述的制造方法,其中,所述通式(7)所示的化合物为选自由苯、甲苯、二甲苯、三甲基苯、萘、甲基萘、二甲基萘、蒽、甲基蒽和二甲基蒽组成的组中的至少一种。
9.根据权利要求6~8中任一项所述的制造方法,其中,所述通式(8)所示的化合物为选自由菲、甲基菲和二甲基菲组成的组中的至少一种。
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