[发明专利]检测及校正疑难的先进过程控制参数的方法及系统

权利要求书

1.一种用于监视反馈过程控制系统的方法，其包括以下步骤：

接收与调整过程工具相关联的一组经施加的过程控制参数；

测量晶片的多个计量目标位置处的覆盖误差；

确定与调整过程工具相关联的一组经模型化的过程控制参数，其中基于所测量的覆盖误差确定所述组经模型化的过程控制参数；

计算所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的差值；

确定与所述组经施加的过程控制参数相关联的第一组统计参数、与所述组经模型化的过程控制参数相关联的第二组统计参数，以及与所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的差值相关联的第三组统计参数中的至少一者；及

基于所述第一组统计参数、所述第二组统计参数和所述第三组统计参数中的至少一者，识别所述反馈过程控制系统内的至少一个预测误差源。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述过程工具包括光刻扫描仪及光刻步进器中的至少一者。

3.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括报告说明所述第一组统计参数、所述第二组统计参数以及所述第三组统计参数中的至少一者的一个或多个图表。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二组统计参数包含所述组经模型化的过程控制参数的平均数及偏差中的至少一者。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第三组统计参数包含所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的差值的至少偏差值。

6.根据权利要求3所述的方法，其中所述一个或多个图表包含在一组共同轴上并排显示的所述组经模型化的过程控制参数的均一化平均数以及偏差值。

7.根据权利要求3所述的方法，其中所述一个或多个图表包含一组共同轴上并排显示的所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的所述差值的偏差值。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的差值的所述偏差值包含n*sigma值，其中sigma表示标准偏差。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述组经施加的过程控制参数包括平移参数、旋转参数、放大参数、剂量参数及焦距参数中的至少一者。

10.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括报告一个或多个图表，所述图表显示所述组经施加的过程控制参数、所述组经模型化的过程控制参数和所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的差值中的至少一者的跨越连续多个晶片的演化。

11.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括报告一个或多个图表，所述图表显示与所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的差值的跨越连续多个晶片的迭代相关联的背景松弛情境。

12.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

确定一组自回归加权参数；及

在计算所述组经施加的过程控制参数和所述组经模型化的过程控制参数之间的差值之前，将所述组自回归加权参数施加到从计量工具接收的所述经模型化过程控制参数。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述确定一组自回归加权参数进一步包括：

将一候选组自回归加权参数施加到从所述计量工具接收的所述组经模型化过程控制参数，以产生一经调整组经模型化过程控制参数；

基于一历史组经施加的过程控制参数以及所述组经模型化的过程控制参数之间的差值来计算差指数值；以及

确定与最低差指数值相关联的一组自回归加权参数。

14.根据权利要求12所述的方法，其中所述组自回归加权参数包含指数加权移动平均EWMAλ值。

15.根据权利要求1所述的方法，其中在确定第一组统计参数、第二组统计参数与第三组统计参数中至少一者之前，所述组所测量的参数以及所述组经施加过程控制参数和所述组经模型化过程控制参数之间的差值经均一化为共同尺度。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述共同尺度包含共同单位。