[发明专利]用于从受污染颗粒流中捕获颗粒的颗粒捕获装置有效
申请号: | 201280048880.9 | 申请日: | 2012-10-01 |
公开(公告)号: | CN103917298A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | R·W·范尼克;J·J·C·维梅伦;J·C·M·马莱尼森;R·A·罗斯 | 申请(专利权)人: | 皇家BAM集团公司 |
主分类号: | B03C3/36 | 分类号: | B03C3/36;B03C3/41;B03C3/12;B03C3/86 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 污染 颗粒 捕获 装置 | ||
1.一种用于从受污染颗粒流中去除颗粒的颗粒捕获装置,包括:
支撑结构,其具有第一端和第二端;
带电的第一导线发射电极,其具有第一导线纵向轴且用于在局部使颗粒电离,所述第一导线发射电极经由绝缘体通过所述支撑结构以张紧状态保持在所述第一端和所述第二端之间,所述绝缘体使所述第一导线发射电极与所述支撑结构电绝缘;
导向面,用于基本上在垂直于所述第一导线纵向轴的平面中引导所述颗粒流的至少一部分,所述导向面在与所述第一导线纵向轴垂直的第一方向上与所述第一导线发射电极平行地间隔开,所述导向面具有与所述第一导线发射电极不同的静电荷,用于对电离颗粒提供从所述第一导线发射电极朝向所述导向面的第一静电力,其特征在于
所述支撑结构包括在与所述第一导线纵向轴垂直的第二方向上与所述第一导线发射电极平行地间隔开的第一纵向杆,其中所述第二方向具有与所述第一方向相反的分量和与所述第一方向垂直的分量,其中所述第一纵向杆具有与所述第一导线发射电极不同的静电荷,用于对电离颗粒提供从所述第一导线发射电极朝向所述第一纵向杆的第二静电力,从而推进所述颗粒流,使得基本上在垂直于所述第一导线纵向轴的平面中,所述颗粒流至少部分地遵循围绕所述第一导线发射电极和所述第一纵向杆的环状轨迹。
2.如前述权利要求所述的颗粒捕获装置,还包括用于基本上在与所述第一导线纵向轴垂直的平面中引导所述颗粒流的至少一部分的外壳面,其中所述外壳面至少部分地包围所述第一导线发射电极和所述导向面,其中所述外壳面包括所述第一纵向杆。
3.如前述权利要求中的一项所述的颗粒捕获装置,包括多个导向面,其中在与所述第一导线纵向轴垂直的平面中观察时,所述多个导向面相对于彼此布置成有角的结构。
4.如前述权利要求中的一项所述的颗粒捕获装置,包括被包含在由所述外壳面限定的内部空间中的多个第一导线发射电极,其中所述第一导线发射电极与至少一个导向面和至少一个纵向杆平行地间隔开,以便推进多个颗粒流,使得基本上在与所述第一导线纵向轴垂直的平面中,所述多个颗粒流中的每一者至少部分地遵循围绕所述多个第一导线发射电极中的一者和所述第一纵向杆中的一者的环状轨迹。
5.如前述权利要求中的一项所述的颗粒捕获装置,其中所述第一纵向杆和所述第一导线发射电极被布置成相对于地面基本上垂直。
6.如前述权利要求中的一项所述的颗粒捕获装置,其中在所述第一导线发射电极和所述导向面之间设有第一间隙,并且在所述导向面和所述第一纵向杆之间设有第二间隙,用于使颗粒流在与所述第一导线纵向轴垂直的平面中,遵循围绕所述第一导线发射电极和所述第一纵向杆的环状轨迹。
7.如前述权利要求中的一项所述的颗粒捕获装置,包括:
第二导线发射电极,其具有第二导线纵向轴且用于在局部使颗粒电离,所述第二导线发射电极经由绝缘体通过所述支撑结构以张紧状态保持在所述第一端和所述第二端之间,所述绝缘体使所述第二导线发射电极与所述支撑结构电绝缘,所述第二导线发射电极与所述第一导线发射电极平行地间隔开,从而限定出导线间隙,导致所述颗粒流遵循穿过所述导线间隙朝向所述导向面的轨迹,其中所述导向面在与所述第二导线纵向轴垂直的第三方向上与所述第二导线发射电极平行地间隔开,所述导向面具有与所述第二导线发射电极不同的静电荷,用于对电离颗粒提供从所述第二导线发射电极朝向所述导向面的第三静电力,其中
所述支撑结构包括在与所述第二导线纵向轴垂直的第四方向上与所述第二导线发射电极平行地间隔开的第二纵向杆,其中所述第四方向具有与所述第三方向相反的分量和与所述第三方向垂直的分量,其中所述第二纵向杆具有与所述第二导线发射电极不同的静电荷,用于对电离颗粒提供从所述第二导线发射电极朝向所述第二纵向杆的第四静电力,从而推进所述颗粒流,使得基本上在垂直于所述第二导线纵向轴的平面中,所述颗粒流至少部分地遵循围绕所述第二导线发射电极和所述第二纵向杆的环状轨迹。
8.如前述权利要求所述的颗粒捕获装置,其中在所述第二导线发射电极和所述导向面之间设有第三间隙,并且在所述导向面和所述第二纵向杆之间设有第四间隙,用于使颗粒流在垂直于所述第二导线纵向轴的平面中,遵循围绕所述第二导线发射电极和所述第二纵向杆的环状轨迹。
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