[发明专利]专用施配容器系统

权利要求书

1.一种专用施配系统，其包括：

施配容器，其具有在被致动时从其中施配材料的施配喷嘴；

基座，其用于承载该施配容器；

支撑平台，其由该基座承载，该支撑平台包含感测表面，该感测表面经组态以在该施配容器置于该支撑平台上时侦测由该施配容器承载的一个或多个指示器的配置；

显示器，其由该基座承载；及

控制器，其耦合至该显示器及该感测表面，该控制器储存与一个或多个指示器设定档相关的施配容器属性数据，每个设定文件由一个或多个所述指示器的预定配置而定义；

其中该显示器呈现与匹配于由该施配容器承载的该感测表面侦测的该一个或多个指示器的配置的该指示器设定档相关的该储存的施配容器属性数据。

2.根据权利要求1所述的专用施配系统，其进一步包括：

开关，其耦合至该控制器，该开关由该支撑平台的移动而致动；

其中该支撑平台由该基座可移动地承载，且与该开关操作接触，使得当该施配容器的该施配喷嘴被致动时，该支撑平台经移动以致动该开关，以便更新储存于该控制器的计数值，以呈现于该显示器上。

3.根据权利要求1所述的专用施配系统，其中该施配容器包含基座，该基座具有从其中延伸的多个同心对准肋部，且其中该感测表面被多个同心基座槽划分，该多个基座槽经配置以容纳该多个对准肋部的至少一个。

4.根据权利要求3所述的专用施配系统，其中该一个或多个指示器安置于该多个同心对准肋部之间。

5.根据权利要求1所述的专用施配系统，其中该支撑平台由至少一个弹簧偏置。

6.根据权利要求1所述的专用施配系统，其中由该施配容器装载的该一个或多个指示器包括磁体。

7.一种专用施配系统，其包括：

施配容器，其具有在被致动时从其中施配材料的施配喷嘴；该施配容器具有带容纳孔隙的基底表面，该容纳孔隙中安置一个或多个指示器且配置为一预定图案；

基座，其用于承载该施配容器，该基座具有由该基座承载的锁定臂，该锁定臂经组态以容纳于该容纳孔隙内，以便将该施配容器可滑动地固持于该锁定臂，该锁定臂包含感测表面，该感测表面经组态以侦测由该施配容器承载的该一个或多个指示器的配置；

支撑平台，其由该基座可枢转地承载，且具有锁定孔隙，该锁定臂穿过该锁定孔隙，该支撑平台从该基座弹性地向上偏置；

控制器，其耦合至该传感器，该控制器储存与一个或多个指示器设定档相关的施配容器属性数据，每个设定文件由一个或多个所述指示器的预定配置定义；及

显示器，其耦合至该控制器；

其中当该施配容器的该容纳孔隙容纳该锁定臂时，该施配容器的该基底表面由该支撑平台承载，且该显示器呈现与匹配于由该感测表面侦测的该施配容器的该一个或多个指示器的配置的该指示器设定档相关的该储存的施配容器属性数据。

8.根据权利要求7所述的专用施配系统，其进一步包括：

开关，其由该基座承载，且耦合至该控制器，该开关经组态以在该平台枢转时被致动；

其中该控制器储存计数值，使得当该施配喷嘴被致动以施配材料时，该支撑平台枢转以致动该开关，以便更新该控制器处的该计数值，以呈现于该显示器上。

9.根据权利要求7所述的专用施配系统，其中该支撑平台由一弹簧偏置。

10.根据权利要求7所述的专用施配系统，其中该指示器包括磁体。

11.根据权利要求7所述的专用施配系统，其进一步包括导向壁，该导向壁从该基座延伸，且部分外接该支撑平台的外围。

12.根据权利要求7所述的专用施配系统，其中该支撑平台旋转穿过安置于该基座中的平台孔隙。