[发明专利]局部镀敷装置及局部镀敷方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于对铜（Cu）或者Cu合金、铁（Fe）或者Fe合金等的金属构件局部地实施镀敷的局部镀敷装置，涉及一种能够降低镀敷膜厚的偏差的局部镀敷装置。

背景技术

作为对纵长的金属构件实施局部镀敷的局部镀敷装置，公知有采用圆筒状的夹具（鼓夹具）的局部镀敷装置。图10是表示以往的局部镀敷装置200的鼓夹具201部分的概略的俯视图。

采用鼓夹具的镀敷装置200是指这样的装置：在鼓夹具201的外周面上卷绕作为被镀敷物的纵长的金属构件202，一边使金属构件202移动、一边自鼓夹具201的中心附近经由设于鼓夹具的外周面的开口部（未图示）像虚线箭头那样将镀敷液供给到金属构件202表面，以连续进给方式实施镀敷。由于利用鼓夹具掩蔽除开口部之外的部分，因此镀敷不会析出，由此能够对金属构件局部地实施镀敷。这样的镀敷方法被称作点镀敷。

在这样的局部镀敷装置中，在鼓夹具201的外周面设有多个定位销203，将该定位销203与设于金属构件202的引导孔（未图示）卡合，使金属构件202以规定的速度移动，从而使鼓夹具201旋转。定位销203在此大概表示了7个，但实际上例如设有8个以上（下同）。

鼓夹具201以能够以旋转轴204为中心转动的方式支承于旋转轴204，在不施加用于驱动鼓夹具201的外力的情况下，该鼓夹具201以与金属构件202的移动速度相等的圆周速度像细箭头那样旋转。

另一方面，也公知有如下局部镀敷装置：将鼓夹具的内周面按压于伴随着金属构件移动而旋转的鼓夹具，调整该按压力而使鼓夹具的圆周速度发生变化（例如参照专利文献1）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009－242859号公报

发明内容

发明要解决的问题

在使用图10所示的以往的局部镀敷装置进行了镀敷处理的情况下，产生镀敷品的镀敷膜厚分布的偏差变明显的问题。

图11是说明图10的局部镀敷装置200的鼓夹具201与金属构件202的关系的图，图11的（A）、（B）是俯视图，图11的（C）是图11的（B）的展开俯视图，图11的（D）是图11的（C）的虚线圆圈部分的放大图。

首先，在图11的（A）、（B）中，是说明鼓夹具201的定位销203和与该定位销203卡合的金属构件202的引导孔的位置关系的图。金属构件202是长度为宽度的例如10倍以上的纵长的构件，图中的进深方向作为宽度表示，图中的左右方向作为长度表示，但在此以能够识别引导孔h1～h10的形状的俯视（能够在金属构件202的主视中视觉识别的状态）表示该引导孔h1～h10，表示定位销分别在哪个位置卡合于该引导孔h1～h10。另外，在以下的说明中，在不必区分各个引导孔的情况下，将其统称为引导孔h。

金属构件202像上述那样是纵长且厚度为例如0.8mm以下左右的较薄的平板状。鼓夹具201的定位销203相互间的分开距离（间距）p1’和金属构件202的引导孔h相互间的分开距离（间距）p2’以这些分开距离一致的方式设计。但是，引导孔h和定位销203之间需要规定的间隙，鼓夹具201有时也是圆筒状的，从加工精度的方面来看，事实上是无法使定位销203和引导孔h完全一致的。

也就是说，由于在使两者完全一致的情况下所容许的定位销203相互间的间距p1’和引导孔h相互间的间距p2’的每1个间距的差值（以下称作引导孔和定位销的间距差）都在鼓夹具201的加工精度的界限以下，因此无法在该间距差内制作夹具。此外，由于鼓夹具1在镀敷加工过程中由于镀敷液的温度而膨胀，因此需要在设计阶段考虑这一点，更加无法将间距差纳入在容许范围内。

例如，由于鼓夹具201在设计上是将间距p1’＝间距p2’作为标准以±公差进行制作的，因此，结果存在间距p1’＜间距p2’的情况、间距p1’＞间距p2的情况。

出于这些原因，存在如下问题：鼓夹具引导孔和定位销之间产生间距差，通过使该间距差在制造工序中反复累积和消除，镀敷膜厚分布不均匀。

参照图11的（A），金属构件202像箭头那样从进入点I侧朝向排出点O侧行进。在此，在被镀敷处理的金属构件202的从顶端到排出点O的距离为L1的状态下，在鼓夹具201的定位销203的间距p1’稍稍小于金属构件202的引导孔h的间距p2’的情况（结果为p1’＜p2’的情况）下，定位销203像图示那样分别卡合于金属构件202的引导孔h1～h7。