[发明专利]用于制备透明导电涂层的方法

权利要求书

1.一种生产制品的方法，该方法包括：

(a)提供包含可蚀刻表面层的基材；

(b)用组合物涂覆所述可蚀刻表面层，所述组合物包含溶于挥发性液体载剂中的非挥发性抗蚀刻组分；

其中，所述液体载剂是包含连续相和第二相的乳液的形式，所述第二相是分散在连续相中的域的形式；以及

(c)对所述组合物进行干燥以去除液体载剂，在这之后，所述非挥发性抗蚀刻组分自组装，在可蚀刻表面层上形成抗蚀刻痕迹。

2.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括对未被抗蚀刻痕迹覆盖的可蚀刻表面层的区域进行蚀刻，以露出下方基材。

3.如权利要求2所述的方法，所述方法还包括去除抗蚀刻痕迹以露出在所述抗蚀刻痕迹下方的可蚀刻表面层的区域。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可蚀刻表面层包括金属化层。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述金属化层选自下组：铜、银、铝及其组合。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可蚀刻表面层是基材上的基本连续层的形式。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述组合物基本不含纳米颗粒。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述组合物还包括蚀刻剂，在对所述组合物进行干燥以去除液体载剂时，所述蚀刻剂对未被抗蚀刻痕迹覆盖的可蚀刻表面层的区域进行蚀刻。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述非挥发性抗蚀刻组分包括光致抗蚀剂。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述非挥发性抗蚀刻组分包括选自下组的非水溶性材料：酚醛清漆树脂、环氧树脂、聚酯多元醇、具有至少15个碳原子的烷烃及其衍生物，以及它们的组合。

11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分散在连续相中的域包括水性域，并且乳液的连续相包含有机溶剂，所述有机溶剂比所述水性域蒸发得更快。

12.如权利要求2所述的方法，其特征在于，对未被抗蚀刻组分覆盖的可蚀刻表面层的区域进行蚀刻包括将所述区域暴露于等离子体。

13.如权利要求2所述的方法，其特征在于，对未被抗蚀刻组分覆盖的可蚀刻表面层的区域进行蚀刻包括将所述区域与选自酸、碱、氧化剂及其组合的试剂进行接触。

14.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在这之后，所述非挥发性抗蚀刻组分自组装，在界定了不规则形状单元的可蚀刻表面层上形成互连的抗蚀刻痕迹。

15.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在不存在所述可蚀刻表面层的情况下，所述基材对于可见光是透明的。

16.如权利要求1所述的方法，所述方法包括用包含溶于挥发性液体载剂中的非挥发性抗蚀刻组分的组合物来涂覆可蚀刻表面层，以在所述可蚀刻表面层上形成基本连续的涂层。

17.一种制品，该制品是根据权利要求1所述的方法制备的。

18.一种生产制品的方法，该方法包括：

(a)提供包含金属化表面层的基材；

(b)用组合物涂覆所述金属化表面层，所述组合物包含溶于挥发性液体载剂中的非挥发性抗蚀刻组分；

其中，所述组合物基本不含纳米颗粒，并且液体载剂是乳液的形式，所述乳液包含分散在含有有机溶剂的连续相中的水性域，所述有机溶剂比所述水性域蒸发得更快；以及

(c)对所述组合物进行干燥以去除液体载剂，在这之后，所述非挥发性抗蚀刻组分自组装，在界定了不规则形状单元的金属化表面层上形成互连的抗蚀刻痕迹。

19.如权利要求18所述的方法，所述方法还包括对未被抗蚀刻痕迹覆盖的金属化表面层的区域进行蚀刻，以露出下方基材。

20.一种制品，该制品是根据权利要求18所述的方法制备的。

21.一种组合物，其包含溶于挥发性液体载剂中的非挥发性抗蚀刻组分，所述挥发性液体载剂是乳液的形式，所述乳液包含连续有机相和分散在连续相中的域的形式的水相，其中：

(a)所述连续有机相包含有机溶剂，所述有机溶剂比所述水相蒸发得更快；

(b)所述水相选自下组：水、与水混溶的有机溶剂及其组合；

(c)所述非挥发性抗蚀刻组分包括选自下组的非水溶性材料：酚醛清漆树脂、环氧树脂、聚酯多元醇、具有至少15个碳原子的烷烃及其衍生物，以及它们的组合；

(d)当将组合物施涂到基材上并干燥之后，所述非挥发性抗蚀刻组分自组装，在界定了不规则形状单元的基材上形成互连的抗蚀刻痕迹；以及

(e)所述组合物基本不含纳米颗粒。