[发明专利]显影剂承载构件、其制造方法和显影装置有效

专利信息
申请号: 201280051621.1 申请日: 2012-10-31
公开(公告)号: CN103890663B 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 伊藤稔;岛村正良;明石恭尚;大竹智;松田拓真;若林和仁;野口敦史;森裕纪 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 北京魏启学律师事务所11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 显影剂 承载 构件 制造 方法 显影 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及用于利用电子照相法的图像形成装置如复印机和打印机的显影剂承载构件,其制造方法和使用所述显影剂承载构件的显影装置。

背景技术

近年来,为了满足形成更高图像质量的电子照相图像的要求,显影剂的粒径正变得更小。粒径小的此类显影剂的每单位质量的颗粒表面积变大。因此,显影剂在显影步骤中倾向于具有大的表面电荷。同时,为了保持显影剂的低消耗量,已开始使用球形颗粒显影剂。与仅仅粉碎的颗粒显影剂相比,此类显影剂的颗粒表面已变得平滑,趋于过度静电带电,从而趋于导致不稳定的带电量。结果,它们具有趋于引起不良图像如套筒重影和浓度不均匀的倾向。

专利文献1中,报道了一种方法,其中将铁配位化合物添加至显影剂承载构件的表面层以控制显影剂的带电量。

在专利文献2中,公开了一种显影剂承载构件,其具有含有特定季鏻盐和特定树脂的表面层,并报道了一种方法,通过该方法防止已成为球形颗粒的显影剂和通过聚合法制造的负带电性显影剂任何过度带电如过度充电(charge-up)。

引文列表

专利文献

专利文献1:日本专利申请特开H5-346727

专利文献2:日本专利申请特开2010-055072

发明内容

发明要解决的问题

然而,专利文献1的目的是通过促进对于显影剂的摩擦带电来改进显影性能。因此,有时出现这种情况:使容易带电的显影剂更多地进行过度充电,因而有时不可能抑制显影剂过度摩擦带电并由此形成良好的图像。

对于专利文献2中公开的显影剂承载构件,其可以抑制显影剂进行过度充电,且可以具有更加稳定的电荷赋予性能。然而,特别是大量添加季鏻盐以抑制容易带电的显影剂过度带电时,表面层的体积电阻率增大,趋向于导致套筒重影。此外,表面层可能会具有低耐磨耗性,因而已经寻求进一步的改进。

此外,近年来,对在其连续使用时保持图像浓度、抑制套筒重影发生且抑制污迹(blotches)(由向显影剂的摩擦带电赋予不良而引起的斑点图像或波型图像)发生的电子照相装置的需求日益增加。在这种情况下,寻求在连续使用过程中对显影剂承载构件表面的摩擦带电的控制的进一步改进。

因此,本发明的目的是提供一种显影剂承载构件,在其表面上通过控制显影剂的摩擦带电可使显影剂稳定,并且即使在使用高摩擦带电性显影剂的情况下,所述显影剂承载构件也可长期保持高图像质量;并提供此类显影剂承载构件的制造方法。本发明的另一目的是提供一种有助于长期稳定形成高品质电子照相图像的显影装置。

用于解决问题的方案

根据本发明,提供一种显影剂承载构件,其是具有基体和表面层的显影剂承载构件;所述表面层是含有粘结剂树脂、导电性颗粒、季鏻盐和偶氮系金属配位化合物的树脂组合物的固化产物;

所述粘结剂树脂在分子结构中具有选自由-NH2基团、=NH基团和-NH-键组成的组的至少一种结构,和所述偶氮系金属配位化合物是由下式(1)表示的化合物:

式(1)

在式(1)中,X1、X2、X3和X4各自独立地表示取代或未取代的亚苯基、取代或未取代的亚萘基、或者取代或未取代的亚吡唑基(pyrazolene);M表示Fe、Cr或Al;和J+表示阳离子。亚苯基、亚萘基和亚吡唑基可各自独立地具有的取代基是选自由下述基团组成的组中的至少一种:具有1-18个碳原子的烷基、硝基、卤素原子、可具有取代基的酰替苯胺基和可具有取代基的苯基,其中酰替苯胺基和苯基可各自独立地具有的取代基是选自由具有1-18个碳原子的烷基和卤素原子组成的组中的至少一种。

根据本发明,还提供一种显影装置,其至少具有负带电性显影剂、容纳负带电性显影剂的显影剂容器、承载和输送在其上的负带电性显影剂的可被旋转地保持的显影剂承载构件、和用于调节形成在所述显影剂承载构件上的负带电性显影剂层的层厚度的显影剂层厚度调节构件;

所述显影剂承载构件是上述的显影剂承载构件。

根据本发明,进一步提供一种具有基体和表面层的显影剂承载构件的制造方法,其是显影剂承载构件的制造方法;所述方法包括下述步骤:

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