[发明专利]经处理的填料、含有其的组合物和由其制成的制品

权利要求书

1.一种生产经处理的填料的方法，其包括：

(c)用包含通式(I)的有机硅烷的处理组合物处理包含未经处理的填料的浆料来生产经处理的填料浆料，其中所述未经处理的填料没有预先干燥：

(R₁)_a(R₂)_bSiX_4-a-b    (I)

其中每个R₁独立地是包含1-36个碳原子的有机官能烃，其中该有机官能烃的官能团是乙烯基、烯丙基、己烯基、环氧基、环氧丙氧基、(甲基)丙烯酰氧基、硫化物、异氰酸酯根合、多硫化物、巯基或卤素；每个R₂独立地是具有1-36个碳原子的烃基或者氢，X每个独立地是卤素或者包含1-36个碳原子的烷氧基；a是0、1、2或3；b是0、1或2；(a+b)是1、2或3；并且条件是当b是1时，(a+b)是2或3，和

(d)干燥所述经处理的填料浆料来生产经处理的填料。

2.权利要求1的方法，其中该处理组合物包含有机硅烷，该有机硅烷包括卤代官能有机硅烷，其中X是烷氧基；a是1；b是0；和R₁的有机官能烃的官能团是卤素。

3.权利要求2的方法，其中该处理组合物包含选自下面的卤代官能有机硅烷：(4-氯甲基-苯基)三甲氧基硅烷、(4-氯甲基-苯基)三乙氧基硅烷、[2-(4-氯甲基-苯基)-乙基]三甲氧基硅烷、[2-(4-氯甲基-苯基)-乙基]三乙氧基硅烷、(3-氯-丙烯基)-三甲氧基硅烷、(3-氯-丙烯基)-三乙氧基硅烷、(3-氯-丙基)-三乙氧基硅烷、(3-氯-丙基)-三甲氧基硅烷、三甲氧基-(2-对甲苯基-乙基)硅烷和/或三乙氧基-(2-对甲苯基-乙基)硅烷。

4.权利要求1的方法，其中该处理组合物进一步包含选自阴离子表面活性剂、非离子和两性表面活性剂及其混合物的处理材料，其中该处理材料的存在量是未经处理的填料的大于1重量％至25重量％。

5.权利要求2的方法，其中该处理组合物进一步包含不同于该卤代官能有机硅烷的巯基硅烷。

6.权利要求5的方法，其中该巯基硅烷包括巯基丙基三甲氧基硅烷。

7.权利要求5的方法，其中该处理组合物进一步包含选自阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性表面活性剂及其混合物的处理材料，其中该处理材料的存在量是未经处理的填料的大于1重量％至25重量％。

8.权利要求1的方法，其中所述未经处理的填料选自硅酸铝、硅胶、胶体二氧化硅、沉淀二氧化硅及其混合物。

9.权利要求7的方法，其中所述处理材料是选自脂肪酸的盐、肌氨酸烷基酯、肌氨酸烷基酯的盐及其混合物。

10.权利要求1的方法，其中该填料包括沉淀二氧化硅。

11.权利要求1的方法，其中该经处理的填料包括经处理的沉淀二氧化硅；和

该处理组合物包含：

(i)通式(I)的卤代官能有机硅烷，

(ii)选自阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂和/或两性表面活性剂的处理材料，其中该处理材料的存在量是未经处理的填料的大于1重量％至25重量％，和

(iii)任选的，不同于卤代官能有机硅烷(i)的硅烷。