[发明专利]制造ZnMgO膜的方法

权利要求书

1.制造ZnMgO薄膜的方法，该方法包括以下步骤：

将锌材料和镁材料溶解在氨水溶液中，所述氨水溶液具有这样的温度：在该温度时，在纵轴表示锌离子浓度和镁离子浓度、横轴表示pH值的水溶液状态图中，由产生Zn(OH)₂沉淀的区域和ZnO₂^2-能够存在的区域所界定的线α位于比由镁离子能够存在的区域和产生Mg(OH)₂沉淀的区域所界定的线β更低的pH值侧，以及，调节所述氨水溶液的pH值以及所述氨水溶液内的锌离子浓度和镁离子浓度，以获得位于线α和线β之间的区域内的状态；

在调节了所述pH值和所述离子浓度后，使所述氨水溶液的温度升高至一温度，在该温度时产生Zn(OH)₂和Mg(OH)₂沉淀；以及

在所述氨水溶液的温度升高后，灼烧沉淀物。

2.根据权利要求1所述的ZnMgO薄膜的制造方法，其中，所述线α位于比所述线β更低的pH值侧时的温度是至多25°C。

3.根据权利要求1或2所述的ZnMgO薄膜的制造方法，其中，产生Zn(OH)₂和Mg(OH)₂沉淀时的温度是至少25°C、至多80°C。

4.ZnMgO薄膜，其(100)X射线衍射强度与(002)X射线衍射强度之比至少为1/2，且其(101)X射线衍射强度与(002)X射线衍射强度之比至少为1/2。

5.ZnMgO薄膜，其由如权利要求1到3中任一项所述的制造方法制造。

6.根据权利要求5所述的ZnMgO薄膜，其中，所述薄膜的(100)X射线衍射强度与(002)X射线衍射强度之比至少为1/2，且其(101)X射线衍射强度与(002)X射线衍射强度之比至少为1/2。