[发明专利]优化的超大面积光纤有效
申请号: | 201280053223.3 | 申请日: | 2012-08-13 |
公开(公告)号: | CN103907037B | 公开(公告)日: | 2017-06-09 |
发明(设计)人: | R·L·灵戈;D·W·佩卡姆 | 申请(专利权)人: | OFS菲特尔有限责任公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02;G02B6/036 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 陈新 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 优化 超大 面积 光纤 | ||
1.一种对微弯和品质因数(FOM)性能进行优化的辅槽光纤,包括具有纵轴的纤芯区域、围绕所述纤芯区域的平台区域、围绕所述平台区域的包层区域,所述纤芯和平台和包层区域被构造为支持并引导信号光在所述纤芯和平台区域中沿所述轴的方向以基横模传播,所述包层区域包括沟槽和外沟槽,其中所述光纤还包括:
在0.13%和0.23%之间的纤芯Δ;
在4μm和8μm之间的平台宽度;
小于-0.25%的沟槽Δ;
在135μm2和170μm2之间的纤芯有效面积(Aeff);
大于0.08%的相对有效折射率差;
在1550nm小于0.185dB/km的损耗;
小于90%的微弯边界(MBF)距离;以及
小于0.8dB的品质因数(FOM)边界距离,
其中所述纤芯Δ是所述纤芯区域相对于所述包层区域的最外层区域的平均折射率的折射率百分比,并且所述沟槽Δ是所述沟槽相对于所述包层区域的最外层区域的平均折射率的折射率百分比,
其中所述微弯边界距离是所述光纤的微弯敏感度与具有相同纤芯有效面积但具有最低可能微弯敏感度的另一光纤的微弯敏感度的规格化差值,并且
所述品质因数边界距离是在给定微弯敏感度下所述光纤落在品质因数边界曲线下方的垂直距离的度量,所述品质因数边界曲线被定义为对于微弯敏感度的每个值的品质因数的最大值。
2.如权利要求1所述的光纤,其中平台宽度小于6μm。
3.如权利要求1所述的光纤,还包括:
在5.5μm和7.0μm之间的纤芯半径;
在5μm2%至9μm2%之间的纤芯体积;
在10μm和14μm之间的沟槽内半径;
在1μm和5μm之间的沟槽宽度;及
在-70μm2%和-15μm2%之间的沟槽体积;
在0μm和25μm之间的外沟槽宽度;及
在-0.33%和0%之间的外沟槽Δ,
其中所述外沟槽Δ是所述外沟槽相对于所述包层区域的最外层区域的平均折射率的折射率百分比。
4.如权利要求3所述的光纤,其中沟槽内半径小于13μm,并且其中沟槽体积大于-60μm2%。
5.如权利要求1所述的光纤,还包括小于120的微弯敏感度。
6.如权利要求1所述的光纤,其中品质因数边界距离被定义为=(A0+A1·纤芯Δ0.5+A3·平台宽度+A4·沟槽Δ+A5·沟槽体积+A6·外沟槽宽度+A7·外沟槽Δ+A8·沟槽Δ·沟槽宽度+A9·沟槽Δ·外沟槽宽度+A10·沟槽Δ·外沟槽Δ)2,其中A0、A1以及A3至A10是用于对品质因数边界距离进行建模的参数。
7.如权利要求6所述的光纤,其中:
A0近似为-0.9;
A1近似为35;
A3近似为0.035;
A4近似为270;
A5近似为-0.02;
A6近似为0.007;
A7近似为-150;
A8近似为50;
A9近似为-15;及
A10近似为8500。
8.如权利要求1所述的光纤,其中微弯边界(MBF)距离被定义为:B1·纤芯Δ+B2·(纤芯半径)-1+B3·纤芯体积+B4·沟槽Δ+B5·(沟槽内半径)-1+B6·沟槽内半径+B7·沟槽体积+B8·沟槽体积·沟槽内半径,并且其中:
B1近似为690;
B2近似为-0.7;
B3近似为-0.2;
B4近似为14;
B5近似为3;
B6近似为0.07;
B7近似为0.03;及
B8近似为-0.0016。
9.如权利要求1所述的光纤,其中微弯边界(MBF)距离小于25%并且品质因数(FOM)边界距离小于0.5dB。
10.如权利要求1所述的光纤,其中在1550nm的损耗小于0.180dB/km。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于OFS菲特尔有限责任公司,未经OFS菲特尔有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280053223.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。