[发明专利]制膜用材料、IV族金属氧化物膜和亚乙烯基二酰胺络合物

权利要求书

1.一种制膜用材料，其特征在于，通过使通式(1)所示的亚乙烯基二酰胺络合物与选自由氧气、空气、臭氧、水和过氧化氢组成的组中的一种以上的氧化剂进行反应而得到，

式(1)中，M¹表示钛原子、硅原子、锆原子或铪原子，R¹和R⁴各自独立地表示碳数3～12的烷基，R²和R³各自独立地表示氢原子或碳数1～4的烷基，R⁵表示可以被氟原子取代的碳数1～12的烷基。

2.根据权利要求1所述的制膜用材料，其特征在于，通式(1)中的M¹为钛原子、锆原子或铪原子。

3.一种制膜用材料，其特征在于，通过使通式(2)所示的亚乙烯基二酰胺络合物与选自由氧气、空气、臭氧、水和过氧化氢组成的组中的一种以上的氧化剂进行反应而制造，

式(2)中，M²表示钛原子或硅原子，R⁶和R⁹各自独立地表示C₁～C₁₂烷基，R⁷和R⁸各自独立地表示氢原子或C₁～C₄烷基，R¹⁰表示C₁～C₆烷氧基或二(C₁～C₆烷基)氨基，Q表示可以被C₁～C₃烷基取代的C₂～C₆亚甲基。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的制膜用材料，其特征在于，制膜用材料是通过溶解于分子内含2个以上氧原子的醇，然后进行加热而得到的制膜用材料。

5.根据权利要求4所述的制膜用材料，其特征在于，醇为溶纤剂类。

6.根据权利要求5所述的制膜用材料，其特征在于，溶纤剂类为乙二醇单甲醚。

7.一种制膜用材料，其特征在于，通过将具有钛原子或锆原子且各所述金属原子利用桥氧原子进行桥联的化合物溶解于分子内含2个以上氧原子的醇，然后进行加热而得到。

8.根据权利要求7所述的制膜用材料，其特征在于，醇为溶纤剂类。

9.根据权利要求8所述的制膜用材料，其特征在于，溶纤剂类为乙二醇单甲醚。

10.一种制膜用材料溶液，其特征在于，包含权利要求1～9中任一项所述的制膜用材料和有机溶剂。

11.根据权利要求10所述的制膜用材料溶液，其特征在于，有机溶剂为醇类。

12.根据权利要求11所述的制膜用材料溶液，其特征在于，醇类为乙二醇单甲醚。

13.一种IV族金属氧化物膜的制作方法，其特征在于，将权利要求10～12中任一项所述的制膜材料溶液涂布于基板表面，对该基板进行热处理、紫外线照射处理、或这两种处理。

14.一种亚乙烯基二酰胺络合物，其特征在于，如通式(2)所示，

式(2)中，M²表示钛原子或硅原子，R⁶和R⁹各自独立地表示C₃～C₁₂烷基，R⁷和R⁸各自独立地表示氢原子或C₁～C₄烷基，R¹⁰表示C₁～C₆烷氧基或二(C₁～C₆烷基)氨基，Q表示可以被C₁～C₃烷基取代的C₂～C₆亚甲基。