[发明专利]改善的光学装置制造

权利要求书

1.一种在玻璃衬底上制造电致变色装置的方法，所述玻璃衬底上具有透明导电层，所述方法包括：

a)抛光所述透明导电层的表面以降低表面粗糙度；以及

b)在所述表面上制造所述电致变色装置。

2.如权利要求1所述的方法，其中a)也被执行来降低雾度。

3.如权利要求2所述的方法，其中使雾度被降低至小于1％。

4.如权利要求1所述的方法，其中在b)之前使所述玻璃衬底回火。

5.如权利要求4所述的方法，其中在a)之前使所述玻璃衬底回火。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述透明导电层为氧化锡基材料。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述氧化锡基材料包括氟化氧化锡。

8.如权利要求7所述的方法，其中所述氧化锡基材料为热解施加的涂层。

9.如权利要求1所述的方法，其中a)是使用磨料制剂来机械地执行，所述磨料制剂包含具有至少9的莫氏硬度标度因数的颗粒。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述磨料制剂包含氧化铝。

11.如权利要求9所述的方法，其中所述磨料制剂包含金刚砂。

12.如权利要求10所述的方法，其中所述磨料制剂为具有250nm或更大的平均颗粒直径的氧化铝浆料。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述平均颗粒直径为约1μM。

14.如权利要求1所述的方法，其中使a)执行约10分钟至约90分钟。

15.如权利要求1所述的方法，其中执行a)直到所述透明导电层的所述表面粗糙度具有介于约1nm与约5nm之间的Ra值为止。

16.如权利要求1所述的方法，其中执行a)直到所述透明导电层的所述表面粗糙度具有介于约2nm与约3nm之间的Ra值为止。

17.如权利要求1所述的方法，其中执行a)直到所述透明导电层的片料电阻处于大约可接受的水平为止。

18.如权利要求1所述的方法，其中执行a)直到所述透明导电层的片料电阻为每平方介于5欧姆至30欧姆之间为止。

19.如权利要求1所述的方法，其中在a)期间周期性地测量所述透明导电层的片料电阻。

20.如权利要求19所述的方法，其中执行a)直到透明导电层的所述周期性地量测的片料电阻为每平方介于约5欧姆与约30欧姆之间为止。

21.如权利要求1所述的方法，其中所述电致变色装置是全固态和全无机的。

22.如权利要求22所述的方法，其中所述电致变色装置包括：

a.氧化钨基电致变色层；

b.镍钨氧化物反电极层；以及

c.氧化锡基第二透明导电层。

23.一种制造电致变色装置的方法，所述方法包括：

a)提供玻璃衬底，所述玻璃衬底上具有第一透明导电涂层；

b)使用氧化铝浆料抛光所述第一透明导电涂层，所述氧化铝浆料具有介于约0.1μM与约1μM之间的平均颗粒大小；以及

c)在所述抛光的透明导电涂层上沉积所述电致变色装置，所述电致变色装置包括氧化钨电致变色层、镍钨氧化物反电极层和第二透明导电层，

其中所述电致变色装置是在设备中予以制造，其中在不离开所述设备的情况下并且在不破坏真空的情况下沉积所述电致变色装置的所述层。

24.如权利要求23所述的方法，其中b)被执行来降低表面粗糙度。

25.如权利要求23所述的方法，其中b)被执行来降低雾度。

26.如权利要求25所述的方法，其中使雾度被降低至小于1％。

27.如权利要求23所述的方法，其中b)被执行来降低表面粗糙度和雾度。

28.如权利要求23所述的方法，其中所述玻璃衬底为回火玻璃，并且所述第一透明导电涂层为氧化锡基材料。