[发明专利]发光材料及其形成方法有效
申请号: | 201280055332.9 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN103930518A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | V·奥斯本斯基 | 申请(专利权)人: | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
主分类号: | C09K11/08 | 分类号: | C09K11/08;G01T1/20 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 徐舒 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 材料 及其 形成 方法 | ||
1.一种方法,包括:
形成以下的混合物:
相应于发光材料的组分;和
包括空位填充原子的空位填充剂;以及
从所述混合物形成所述发光材料,其中所述发光材料包括至少一些来自所述空位填充剂的所述空位填充原子。
2.一种方法,包括:
熔化相应于发光材料的组分以形成熔体;
将空位填充剂添加至所述熔体中;以及
从所述熔体形成所述发光材料,其中所述发光材料包括至少一些来自所述空位填充剂的所述空位填充原子。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述空位填充剂还包括其他原子,所述其他原子包括与所述空位填充原子的元素不同的元素,且进行形成所述发光材料使得基本上没有来自所述空位填充剂的所述其他原子被结合进所述发光材料的基体中。
4.根据权利要求3所述的方法,其中在来自所述空位填充剂的任何其他原子被结合进所述发光材料中的程度,所述任何其他原子基本上只在间隙位置被结合。
5.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述空位填充剂还包括其他原子,所述其他原子包括与所述空位填充原子的元素不同的元素,且进行形成所述发光材料使得基本上没有来自所述空位填充剂的所述其他原子被结合进所述发光材料中。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的方法,其中所述其他原子包括金属原子。
7.根据权利要求6中任一项所述的方法,其中所述金属原子包括Ba、Sn、Zn、Zr、Hf、Cd、Pb或其任意组合。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述空位填充原子是O、S或X,其中X是卤素。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述空位填充剂包括BaO2、SnO2、ZnO或其任意组合。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中:
所述空位填充原子为O;以及
在氧化环境中进行形成所述发光材料。
11.根据权利要求1至8中任一项所述的方法,还包括在氧化环境中退火所述发光材料。
12.根据权利要求10或11所述的方法,其中所述氧化环境包括O2、O3、NO、N2O、CO2或其任意组合。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的方法,其中所述氧化环境包括至少约1.4体积%、至少约5体积%、至少约11体积%、至少约15体积%或至少约20体积%的与所述空位填充剂不同的氧化物质。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的方法,其中所述氧化环境包括不大于100体积%、不大于约90体积%、不大于约75体积%、不大于约50体积%或不大于约40体积%的氧化物质。
15.根据权利要求10至14中任一项所述的方法,其中所述氧化环境包括至少约1.4kPa、至少约5kPa、至少约11kPa、至少约15kPa或至少约20kPa的与所述空位填充剂不同的氧化物质。
16.根据权利要求10至15中任一项所述的方法,其中所述氧化环境包括不大于101kPa、不大于约90kPa、不大于约75kPa、不大于约50kPa或不大于约40kPa的与所述空位填充剂不同的氧化物质。
17.根据权利要求1至8中任一项所述的方法,其中所述空位填充剂包括ZnX2、ZrX4、HfX4、SnX2或其任意组合,其中X是卤素。
18.根据权利要求1至8和17中任一项所述的方法,其中:
所述空位填充原子为X;以及
所述方法还包括在含卤素环境中退火所述发光材料。
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