[发明专利]光刻设备及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

衬底台，构造成保持衬底；

投影系统，配置成通过开口投影图案化辐射束并且将所述图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；

导管，配置成将气体传输至所述开口并且将在所述开口外的气体的气流提供至所述投影系统和衬底台之间的空间；

其中，所述光刻设备设置有温度控制设备，所述温度控制设备设置在投影系统和衬底台之间的空间中，所述温度控制设备配置成控制在所述气体通过所述开口之后在所述空间中的气体的温度，并且

其中，所述开口通过开口限定壁的倾斜的内表面来形成。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述温度控制设备包括温度控制装置，所述温度控制装置包括加热装置和冷却装置两者。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述加热装置和冷却装置安装在定位在所述空间中的支撑构件上。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中所述支撑构件安装在投影系统的面对所述衬底台的表面上。

5.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述加热装置包括至少一个电阻加热元件。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中所述至少一个电阻加热元件包括多个独立可控分段。

7.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述加热装置包括多个独立可控的加热元件。

8.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述冷却装置包括至少一个冷却元件。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述至少一个冷却元件包括布置成运载在远距离源处冷却的冷却流体的热管。

10.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述温度控制装置配置成通过控制加热装置来控制冷却的量。

11.根据权利要求1-10中任一项所述的光刻设备，还包括度量设备，所述度量设备配置成测量通过光刻设备投影到衬底上的图案的重叠，其中度量设备的输出被用作构造成且布置成控制温度控制设备的操作的控制系统的控制输入。

12.根据权利要求1-10中任一项所述的光刻设备，还包括测量设备，所述测量设备配置成测量衬底的红外反射率，其中所测量的衬底的反射率被用作构造成且布置成控制温度控制设备的操作的控制系统的控制输入。

13.一种器件制造方法，包括：

通过投影系统中的开口将图案化辐射束投影到衬底上；

经由导管将气体传输至投影系统中的开口；和

控制在气体通过所述开口之后的所述气体的温度，使得气体的温度在投影系统和衬底之间的空间被控制，

其中所述温度控制包括冷却，所述冷却通过使用冷却装置的过冷却和使用加热装置的加热的结合来实现，并且

其中，所述开口通过开口限定壁的倾斜的内表面来形成。