[发明专利]X射线探测装置

权利要求书

1.一种X射线成像及材料鉴别装置，该装置包括X射线探测器，所述X射线探测器包括闪烁体形式的均匀厚度的单个部件(3)，所述闪烁体被配置成将入射X射线波长光子转换并发出可见波长光子的部件，放置被测物质的位置(2)，X射线源(1)，以及配置成干扰X射线能量谱的结构，所述部件、放置被测物质的位置、X射线源及结构均在公共轴(A-A)上，其中，X射线源(1)设置成将X射线能量谱沿公共轴(A-A)对准发射撞击在放置于所述位置(2)上的被测物质；所述结构被设置成干扰X射线能量谱；其中，所述结构位于X射线源(1)和所述闪烁体(3)之间，位于与所述公共轴(A-A)相交的放置被测物质的位置(2)的任意一侧；其中，所述结构包括至少三个相邻区(4a、4b、4c、5a、5b、5c、6a、6b、6c)，所述三个相邻区互不相同且具有不同的X射线能量谱干扰特性；并且，其中所述结构的相邻区之间的差异包括在相邻区中的所述结构的材料的厚度，所述结构安装在所述装置中，使得所述结构的不同区同时干扰相同的X射线能量谱，其中所述结构的同一区中的所述结构的材料的厚度是均匀的。

2.根据权利要求1所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中闪烁体包括闪烁体层和背衬层。

3.根据上述任一权利要求所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述至少三个相邻区以阵列形式设置。

4.根据权利要求3所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述阵列包括一个x乘y的阵列，其中x乘y的积大于等于3。

5.根据权利要求4所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述结构中重复设置所述阵列。

6.根据权利要求3所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述结构包括许多阵列。

7.根据权利要求1、2、4任一项所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中相邻区间的差别包括所述结构单个相邻区的制作材料不同。

8.根据权利要求1、2、4任一项所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述结构的单个区包括多个分离的层。

9.根据权利要求8所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中不同区间中分离层的厚度不同。

10.根据权利要求8所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中不同区间中分离层的制作材料不同。

11.根据权利要求8所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中不同区间中分离层的数量不同。

12.根据权利要求8所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述结构包括多个分离的层且至少一个分离层包括至少一个孔。

13.根据权利要求12所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述多个分离的层包括至少一个孔，其中所述结构不同层孔的大小不同。

14.根据权利要求12或13所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述分离层用箔制成。

15.根据权利要求12或13所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述分离层用网制成。

16.根据权利要求1所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述闪烁体层由能量依赖性平坦的闪烁体材料制成。

17.根据权利要求1所述的X射线成像及材料鉴别装置，其中所述闪烁体层由能量依赖性不平坦的闪烁体材料制成。