[发明专利]配备有经调制照射源的光学计量工具

权利要求书

1.一种光学计量工具，其包括：

可调制照射源，其经配置以照射安置于样本载台上的样本的表面；

一组照射光学器件，其经配置以将来自经调制照射源的照射引导到所述样本的所述表面；

一组收集光学器件；

检测器，其经配置以检测从所述样本的表面发出的照射的至少一部分，其中所述组收集光学器件经配置以将来自所述样本的所述表面的照射引导到所述检测器；其中所述可调制照射源、所述检测器、所述组照射光学器件及所述组收集光学器件经定位以在所述样本上执行光学计量；及

调制控制系统，其通信地耦合到所述可调制照射源，其中所述调制控制系统经配置而以选定调制频率调制所述可调制照射源的驱动电流；其中所述经调制照射源响应于所述调制控制系统而调制来自所述可调制照射源的照射，从而相对于来自处于未调制状态的所述可调制照射源的照射而抑制所述照射内的一个或多个相干特征。

2.根据权利要求1所述的光学计量工具，其中所述选定调制频率包括：

适于产生具有选定条纹可见度曲线的照射的调制频率。

3.根据权利要求2所述的光学计量工具，其中适于产生具有选定条纹可见度曲线的照射的所述调制频率包括：

适于产生具有适于实现低于选定容限水平的相干伪影的条纹可见度曲线的照射的调制频率。

4.根据权利要求2所述的光学计量工具，其中所述选定条纹可见度曲线经配置以抑制具有高于选定水平的强度的干涉条纹的产生。

5.根据权利要求1所述的光学计量工具，其中所述选定调制频率包括：

适于产生照射的调制频率，所述照射具有以不同于所述光学计量工具的特性光学路径长度的距离定位的一组强度峰值。

6.根据权利要求5所述的光学计量工具，其中所述光学计量工具的所述特性光学路径长度包括：

所述光学计量工具的第一反射表面与所述光学计量工具的第二反射表面之间的距离。

7.根据权利要求2所述的光学计量工具，其中所述选定条纹可见度曲线实质上不同于处于未调制状态的所述照射源的条纹可见度曲线。

8.根据权利要求1所述的光学计量工具，其中适于产生具有选定相干特征的照射的所述选定调制频率包括：

适于产生具有低于选定长度的相干长度的照射的调制频率。

9.根据权利要求8所述的光学计量工具，其中所述选定长度包括：

所述光学计量工具的特性光学路径长度。

10.根据权利要求9所述的光学计量工具，其中所述光学计量工具的所述特性光学路径长度包括：

所述光学计量工具的第一反射表面与所述光学计量工具的第二反射表面之间的距离。

11.根据权利要求8所述的光学计量工具，其中所述选定长度包括：

处于未调制状态的所述可调制照射源的相干长度。

12.根据权利要求1所述的光学计量工具，其中所述光学计量工具经配置以执行临界尺寸计量、薄膜计量及重叠计量中的至少一者。

13.根据权利要求1所述的光学计量工具，其中所述可调制照射源包括：

一或多个激光器。

14.根据权利要求13所述的光学计量工具，其中所述一或多个激光器包括：

一或多个半导体二极管激光器。

15.根据权利要求13所述的光学计量工具，其中所述一或多个激光器包括：

一或多个二极管泵激固态激光器。

16.根据权利要求13所述的光学计量工具，其中所述一或多个激光器包括：

一或多个超连续谱激光器。

17.根据权利要求1所述的光学计量工具，其中所述选定调制频率在射频RF范围内。

18.根据权利要求1所述的光学计量工具，其中所述可调制照射源、所述检测器、所述组照射光学器件及所述组收集光学器件以反射测量术几何结构配置。

19.根据权利要求18所述的光学计量工具，其中所述可调制照射源、所述检测器、所述组照射光学器件及所述组收集光学器件以角解析反射测量术几何结构及光谱反射测量术几何结构中的至少一者配置。