[发明专利]用于处理气流的设备

权利要求书

1.一种用于处理来自过程装置的过程废气流的设备，包括：等离子体消除装置，其具有反应腔室和等离子体焰炬，所述等离子体焰炬用于生成等离子体流以喷射到所述腔室内用于处理过程废气流；第一入口，其用于输送所述过程废气流进入所述等离子体消除装置以进行处理；以及，第二入口，其在所述设备的正常条件下与试剂源成流动连通用来将试剂输送到所述等离子体装置用来改进所述处理的效率并且其在所述设备的备份条件下与过程废气流源成流动连通用来将过程废气流输送到所述装置内进行处理。

2.根据权利要求1 所述的设备，其特征在于，在所述正常条件下，所述第一入口与第一过程腔室成流动连通用于向所述装置内输送第一过程废气流以进行处理并且在所述备份条件下，所述第二入口与第二过程腔室成流动连通用于向所述装置内输送第二过程废气流以进行处理。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于包括：第一管，其布置成用以将试剂从所述试剂源输送到所述第二入口；第二管，其布置成用以将所述第二过程废气流从所述第二过程腔室输送到所述第二入口；以及，阀布置，其在所述装置的正常条件下允许试剂输送通过所述第一管并且在所述装置的备份条件下允许所述第二过程废气流输送通过所述第二管。

4.根据权利要求3 所述的设备，其特征在于，所述阀布置包括位于相应第一管和第二管中的第一阀和第二阀，所述第一阀可操作以允许通过所述第一管流动连通并且所述第二阀可操作以允许在所述第二管中流动连通。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，其包括：多个所述等离子体消除装置，其具有布置成在所述设备的正常条件下与多个过程腔室成流动连通的相应多个所述第一入口；并且所述等离子体消除装置具有布置成在所述设备的正常条件下与试剂源成流动连通的相应多个所述第二入口，其中在所述设备的备份条件下，至少一个第二入口布置成与所述过程腔室之一成流动连通以用于从所述过程腔室接收过程废气流进行处理。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，在所述设备的所述备份条件下，所述第一入口布置成与所述过程腔室成流动连通并且所述第二入口布置成与所述过程腔室中的不同过程腔室成流动连通。

7.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，在所述设备的正常条件下，所述第一入口布置成与所述过程腔室成流动连通并且在所述备份条件下，所述第二入口布置成与同一所述过程腔室成流动连通，从而使得如果流动限于所述第一入口，来自所述过程腔室的所述过程废气流可以通过所述第二入口输送以进行处理。

8.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述等离子体装置中的至少一个包括至少三个入口并且所述入口之一仅在所述设备的备份条件下将过程废气流或试剂输送到所述等离子体消除装置内。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，在所述设备的所述备份条件下，所述等离子体消除装置中的至少一个包括：所述第一入口，其布置成与第一过程腔室成流动连通以输送第一过程废气流到所述装置内以进行处理；所述第二入口，其布置成与第二过程腔室成流动连通以输送第二过程废气流到所述装置内以进行处理；以及，第三入口，其布置成与第三过程腔室成流动连通以输送第三过程废气流到所述装置内进行处理。

10.根据权利要求9 所述的设备，其特征在于，所述等离子体消除装置中的至少一个包括：与过程腔室相同数量的入口，使得在所述设备的所述备份条件下，来自所有过程腔室的过程废气流可以通过相应所述入口输送到所述至少一个装置以在所述装置中进行处理。

11.根据权利要求10 所述的设备，其特征在于，所述等离子体消除装置中每一个包括与过程腔室相同数量的入口，使得在所述设备的所述备份条件下，来自所有过程腔室的所述过程废气流可以通过相应所述入口输送到所述装置中的任一个以在所述任一个装置中进行处理。

12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于：所述等离子体消除装置的所述第一入口和第二入口配置成在选定的相应方向上将流体输送到等离子体消除装置从而使得通过所述第一入口或第二入口输送的流体受导向分别远离所述第二入口或第一入口以减少在所述入口中任一个中的流体混合。