[发明专利]包括铰链组件的等离子体处理组件

说明书

技术领域

本说明书总体上涉及等离子体处理组件，并且更具体地，涉及包括铰链组件的等离子体处理组件。

背景技术

等离子体处理组件能够被用来将材料从由例如半导体或玻璃形成的基底蚀刻掉。等离子体处理组件可以包括包围等离子体处理气体的真空室，该处理气体能够被离子化并且转化为等离子体。例如射频源（RF源）能够向处理气体施加射频能量（RF能源）以产生等离子体。在一些等离子体处理组件中，多个电极和电介质环能够同心地对准以将RF能量导向基底的期望的部分。

此外，一个电极能够耦合到下处理体并且另一个电极能够耦合到上处理体。下处理体和上处理体能够可枢转地彼此啮合以便相对旋转运动。例如：上处理体可以周期性地旋转远离下处理体以便维护和/或清洗下处理体。这种周期性的维护能够导致上处理体和下处理体之间的错位。

因此，需要一种附加的包括铰链组件的等离子体处理组件。

发明内容

在一种实施方式中，等离子体处理组件可以包括：下处理体、基部铰链构件、铰链体、以及自锁闩。下处理体可以包括形成于其中的下真空室。基部铰链构件能被安装到下处理体。铰链体能与基部铰链构件可枢转地接合。铰链体能被安装到上处理体。基部铰链构件和铰链体能够彼此围绕第一旋转轴相对转动，使得上处理体的运动由基部铰链构件和铰链体约束。铰链体可以包括凸锁闩接合构件。自锁闩能与基部铰链构件可枢转地接合。自锁闩和基部铰链构件能彼此围绕第二旋转轴相对转动。自锁闩能被偏置在偏置方向。当铰链体围绕第一旋转轴从闭合位置并朝向锁定位置旋转时，凸锁闩接合构件能接触自锁闩并且能使自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。当铰链体围绕第一旋转轴旋转到锁定位置时，自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转并且能够阻止铰链体围绕第一旋转轴旋转到闭合位置。

鉴于下文结合附图的详细描述，将更充分地理解这些和通过本文所述的实施方式提供的附加特征。

附图说明

示于附图中的实施方式是说明性和示例性的，并非旨在限制由权利要求书所限定的主题。当结合下面的附图阅读时，就能够理解本说明性实施方式的以下详细描述，其中用相同的附图标记表示相同的结构，并且其中：

图1A示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于闭合位置的等离子体处理组件；

图1B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的等离子体处理组件；

图2示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组件；

图3A和3B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于初始接触点处的铰链组件；

图4A和4B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组件；

图5A和5B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于锁定位置的铰链组件；以及

图6A和6B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于释放位置的铰链组件。

具体实施方式

图1一般地描绘了用于从基底蚀刻材料和/或在基底上沉积材料的等离子体处理组件的一个实施方式。等离子体处理组件通常包括通过铰链组件与下处理体可枢转地接合的上处理体。根据此处所述的实施方式，铰链组件通常包括与铰链体可枢转地接合的基部铰链构件和与基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩。在这里将更详细地描述等离子体处理组件的各种实施方式和等离子体处理组件的操作。