[发明专利]高带宽抗共振膜

权利要求书

1.膜，其包括：

布置在所述膜中心部分的第一重量；以及

布置远离所述膜的所述中心部分的第一铰链结构；

布置在所述第一重量和所述第一铰链结构之间的第二重量。

2.权利要求1所述的膜，进一步包括一个或多个以辐条图案延伸远离所述膜的所述中心部分的加强肋。

3.权利要求1所述的膜，其中所述第二重量限定开口，和所述第一重量布置在所述开口内。

4.权利要求1至3中任一所述的膜，进一步包括：

布置在所述膜上方的覆盖层；以及

布置在所述膜和所述覆盖层之间的粘弹性材料。

5.权利要求4所述的膜，其特征在于，所述第二重量与所述覆盖层连接。

6.权利要求1所述的膜，进一步包括连接至所述第一重量的阻尼材料。

7.权利要求1所述的膜，进一步包括布置在邻近所述第一重量的阻尼材料。

8.权利要求1所述的膜，其中所述第一铰链结构限定开口，其中所述第一重量布置在所述开口内。

9.权利要求8所述的膜，进一步包括布置在远离所述第一铰链结构的第二铰链结构。

10.权利要求9所述的膜，其中所述第二铰链结构限定开口，其中所述第一铰链结构布置在由所述第二铰链结构限定的所述开口内。

11.权利要求1所述的膜，其中所述第一铰链结构包括半圆形轮廓、正弦波轮廓、三角形轮廓或正方形轮廓。

12.权利要求9所述的膜，其中所述第二铰链结构包括半圆形轮廓、正弦波轮廓、三角形轮廓或正方形轮廓。

13.权利要求1所述的膜，进一步包括布置在所述第一铰链结构和所述第一重量之间的第一表面，其中所述第一表面基本上垂直于所述第一铰链结构的表面。

14.权利要求1所述的膜，其中所述第一铰链结构控制所述膜的硬度。

15.权利要求1所述的膜，其中所述第一铰链结构控制所述膜的共振频率。

16.一种膜部件，其包括：

第一多个膜，其中每个膜包括：

布置在所述膜中心部分的第一重量；

布置在远离所述膜的所述中心部分的第一铰链结构；以及

连接所述第一多个所述膜的第一框架；

其中所述第一多个膜中的至少一个膜布置在所述第一多个膜的另一膜上方；以及

布置在所述至少一个膜和所述另一膜之间的阻尼材料。

17.权利要求16所述的膜部件，进一步包括：第二多个膜，其中每个膜包括：

布置在所述膜中心部分的第一重量；

布置在远离所述膜的所述中心部分的第一铰链结构；

连接所述第二多个膜的第二框架；以及

连接所述第一框架和所述第二框架的第三框架。

18.一种形成膜的方法，其包括：

提供膜；

形成布置在所述膜中心部分的第一重量；

形成布置在远离所述膜的中心部分的第一铰链结构，其中所述膜的共振频率取决于所述第一铰链结构的长度、厚度、弹性模量或泊松比；

布置在所述第一重量和所述第一铰链结构之间的第二重量。

19.膜，其包括：

布置在所述膜中心部分的第一重量；以及

一个或多个加强肋，其以辐条图案延伸远离所述膜的中心部分；

布置远离所述膜的所述中心部分的第一铰链结构；

布置在所述第一重量和所述第一铰链结构之间的第二重量。

20.膜，其包括：

布置在所述膜中心部分的第一重量；以及

布置在所述第一重量和所述膜外部部分之间第二重量，其中所述第二重量限定开口，所述第一重量布置在所述开口内。

21.权利要求20所述的膜，其中所述第二重量是环形的。