[发明专利]用于电化学处理器的接触环

权利要求书

1.一种电处理设备，所述电处理设备包括：

头部；

在所述头部中的转子；

在所述转子上的接触环；

在所述接触环上的多个间隔开的凸出物；

一个或更多个条的接触指，所述接触指夹紧在所述接触环上的位置中，其中所述条具有多个间隔开的凸出物开口，并且其中所述凸出物延伸至所述凸出物开口中或者穿过所述凸出物开口；和

基座，所述基座包括电解液容器，其中所述头部可移动的以将所述接触环定位在所述容器中和所述容器外。

2.如权利要求1所述的电处理设备，其中条包括多个邻接的叉形物，其中实质上每一叉形物包括至少两个接触指。

3.如权利要求2所述的电处理设备，其中实质上每一叉形物包括：头部；在所述头部上的连结结构，所述连结结构附接于相邻的叉形物；和附接于连接至所述头部的肩部的所述指。

4.如权利要求3所述的电处理设备，其中一个或更多个叉形物具有两个接触指，所述两个接触指由间隙分隔，并且其中所述两个接触指各自具有比所述间隙的宽度大2-4倍的宽度。

5.如权利要求1所述的电处理设备，进一步包括介电材料遮板，所述遮板至少部分地覆盖所述接触指。

6.一种电处理设备，所述电处理设备包括：

头部；

在所述头部中的转子；

在所述转子上的接触环组件，所述接触环组件包括环基座、在所述环基座上的一个或更多个条的接触指、和至少部分地覆盖所述环基座的外表面和所述接触指的遮蔽环；和

电解液容器，其中所述头部可移动的以将所述接触环定位在所述容器中和所述容器外。

7.如权利要求6所述的设备，其中所述遮蔽环具有内遮蔽区段和外环区段，并且其中所述内遮蔽区段实质上覆盖所述指且所述外环区段围绕所述环基座。

8.如权利要求6所述的设备，进一步包括衬垫，所述衬垫在所述环基座的内表面上，其中所述遮蔽环和所述衬垫包含非金属，并且其中所述环基座包含金属。

9.如权利要求6所述的设备，其中所述衬垫包括渐细的上表面。

10.如权利要求6所述的设备，进一步包括扣件，所述扣件将所述遮蔽环附接至所述环基座，并且其中所述接触指的所述条夹紧在所述遮蔽环与所述环基座之间。

11.如权利要求10所述的设备，进一步包括耳片，所述耳片在所述环基座上，所述耳片延伸至所述接触指的所述条中的耳片开口或穿过所述接触指的所述条中的耳片开口。

12.如权利要求6所述的设备，其中两个或两个以上指附接于叉形物；叉形头在所述叉形物上；并且其中所述叉形头的外端定位为抵靠在所述环基座上的环形同心对准唇。

13.如权利要求6所述的设备，其中所述接触环组件具有至少360个指。

14.如权利要求6所述的设备，其中所述指是平的并且具有约0.012毫米至0.025毫米的厚度。

15.一种在电处理设备中使用的接触环组件，所述接触环组件包括：

金属环基座，所述金属环基座具有内壁、外壁和平角表面；

在所述平角表面上的多个间隔开的耳片；

一个或更多个条的平面接触且等间隔的金属叉形物，其中每一叉形物具有头部、在所述头部上且附接于相邻的叉形物的左侧连结结构和右侧连结结构、和附接于每一叉形物的所述头部的两个或两个以上指，其中所述条在所述金属环基座的所述平角表面上，且其中所述耳片延伸至所述条中的开口中；和

非金属遮蔽环，所述非金属遮蔽环附接于所述金属基座环，其中所述遮蔽环具有遮蔽区段，所述遮蔽区段固持所述条在所述平角表面上，并且其中所述遮蔽环还具有围绕所述金属基座环的外壁的环形区段。

16.如权利要求5所述的电子处理装置，进一步包括在所述遮板中的多个间隔开的清洗孔。

17.如权利要求15所述的接触环组件，进一步包括在所述环基座的内壁上的非金属衬垫。

18.一种在电化学处理器的接触环组件中使用的接触条，所述接触条包括：

多个等间隔的金属叉形物，其中每一叉形物具有头部、在所述头部上且附接于相邻的叉形物的左侧连结结构和右侧连结结构、和附接于每一叉形物的所述头部的两个或两个以上指，其中所述条中的开口处于所述叉形物之间。