[发明专利]具有双吸收层的干涉调制器

权利要求书

1.一种机电显示设备，其包括：

反射显示像素，其包含

反射体；

第一部分透射型吸收层，其距所述反射体而安置，所述第一部分透射型吸收层和所述反射体界定其之间的第一间隙，所述第一间隙具有为距离d1的厚度尺寸；

第二部分透射型吸收层，其距所述第一部分透射型吸收层而安置以使得所述第一部分透射型吸收层处于所述第二部分透射型吸收层与所述反射体之间，所述第二部分透射型吸收层和所述第一部分透射型吸收层界定其之间的第二间隙，所述第二间隙具有为距离d2的厚度尺寸；且

其中所述反射体、所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层中的至少两者为可移动的以增加或减小所述第一间隙和所述第二间隙的所述厚度尺寸，

其中所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层的厚度的总和介于3纳米与12纳米之间。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述距离d1小于700纳米且所述距离d1和所述距离d2的总和小于1400纳米。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述反射显示像素经配置以使得在给定所接收光波长范围λmin到λmax的情况下，距离d1<λmax，且d1+d2<2λmax。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层可对应地移动以使得所述距离d1与所述距离d2之间的差小于50纳米。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述反射体、所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层中的至少两者为可移动的以使得所述距离d1和所述距离d2介于0与315纳米之间。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述反射体、所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层中的至少两者为可移动的以使得所述距离d1和所述距离d2分别将所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层置于由入射光和由所述反射体反射的反射光的干涉产生的所要显示的蓝色、绿色或红色的驻波干涉图案的连续黑暗边缘处及将所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层置于由入射光和由所述反射体反射的反射光的干涉产生的蓝色、绿色和红色波长的场强度相对较高的位置以显示黑色。

7.根据权利要求1所述的设备，其中当在所述反射体和所述第二部分透射型吸收层上施加第一电压且在所述反射体和所述第一部分透射型吸收层上施加第二电压时，所述反射体和所述第一部分透射型吸收层可通过静电力来移动。

8.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括衬底，其中所述第二部分透射型吸收层安置在所述衬底上。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一部分透射型吸收层为可移动的，且其中所述第二部分透射型吸收层和所述反射体中的一者为可移动的。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述反射体、所述第一部分透射型吸收层及所述第二部分透射型吸收层中的至少两个吸收层为可移动的以使得(|d2-d1|)/((d1+d2)/2)小于或等于0.25。

11.根据权利要求1所述的设备，其中所述距离d1和所述距离d2之间的关系为d2＝d1+(10到20纳米)。

12.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层包含钼铬MoCr、钒V、锗Ge或钨W。

13.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层的所述厚度的所述总和介于5纳米与7纳米之间。

14.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一部分透射型吸收层比所述第二部分透射型吸收层厚。

15.根据权利要求1所述的设备，其中所述反射体、所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层中的至少两者为可移动的以使得对于具有波长λ的光的目标原色，所述距离d1和所述距离d2分别将所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层置于距所述反射体达λ/2±15纳米和λ±15纳米的距离处。

16.根据权利要求1所述的设备，其中所述反射显示像素进一步包括具有介于100纳米与300纳米之间的厚度的可移动介电层，且其中所述第一部分透射型吸收层安置在所述介电层上。