[发明专利]自抑制的溶胀填充剂化合物

权利要求书

1.一种井下密封剂，其包含：

组合物，其包含：

聚合物；

吸收剂材料；

主交联网络，其包含聚合物链之间的主键；和

次交联网络，其是暂时的。

2.权利要求1的井下密封剂，其中所述次交联网络包含吸收剂材料和交联剂之间的次键。

3.权利要求2的井下密封剂，其中所述次键相对于主键是不稳定的。

4.权利要求3的井下密封剂，其中所述次键是共价键，离子键，氢键，物理键或其组合。

5.权利要求3的井下密封剂，其中所述次键在pH大约8-大约10时断裂。

6.权利要求3的井下密封剂，其中所述次键在大约95℃-大约150℃的温度断裂。

7.权利要求3的井下密封剂，其中所述次键在大约20MPa-大约105MPa的压力断裂。

8.权利要求2的井下密封剂，其中所述交联剂选自钛酸酯/盐，锆酸酯，氨基羧酸，金属螯合物，丙烯酸酯，硼酸盐，缩酮或其组合。

9.权利要求8的井下密封剂，其中所述交联剂是钛酸酯/盐，其具有式1所给出的结构，

式1

其中A是卤素或者氧；

R¹、R²、R³和R⁴独立地是氢，任选取代的烷基，任选取代的氟烷基，任选取代的环烷基，任选取代的杂环烷基，任选取代的芳基，任选取代的芳烷基，任选取代的杂芳基，任选取代的杂芳烷基，任选取代的烯基，任选取代的炔基，任选取代的NH₂，任选取代的胺，任选取代的亚烷基胺，任选取代的亚芳基胺，任选取代的亚烯基胺；和

R⁴在A是卤素时不存在。

10.权利要求9的井下密封剂，其中所述钛酸酯/盐选自二异丙氧化双(乙酰基丙酮酸)钛(IV)，异丙氧化钛(IV)，丁氧化钛(IV)，乙氧化钛(IV)，氯三异丙氧基钛(IV)，双(乳酸铵)二氢氧化钛(IV)，叔丁氧化钛(IV)，2-乙基己基氧化钛(IV)，异丙氧化钛(IV)，甲氧化钛(IV)，丙氧化钛(IV)，(三乙醇胺化)异丙氧化钛(IV)，2-乙基己基氧化钛(IV)，四氢糠基氧化钛(IV)，二异丙氧化双(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)钛(IV)，四-2-乙基己酸钛(IV)，钛酸辛二醇酯或者其组合。

11.权利要求8的井下密封剂，其中所述钛酸酯/盐的存在量是大约0.01wt％-大约10wt％，基于该聚合物的重量。

12.权利要求8的井下密封剂，其中所述交联剂是锆酸酯/盐，其具有式2所给出的结构，

式2

其中A是卤素或者氧；

R¹、R²、R³和R⁴独立地是氢，任选取代的烷基，任选取代的氟烷基，任选取代的环烷基，任选取代的杂环烷基，任选取代的芳基，任选取代的芳烷基，任选的取代的杂芳基，任选取代的杂芳烷基，任选取代的烯基，任选取代的炔基，任选取代的NH₂，任选取代的胺，任选取代的亚烷基胺，任选取代的亚芳基胺，任选取代的亚烯基胺；和

R⁴在A是卤素时不存在。

13.权利要求12的井下密封剂，其中所述锆酸酯/盐选自乙酰基丙酮酸锆(IV)；丙烯酸锆(IV)，丁氧化锆(IV)，叔丁氧化锆(IV)，碳酸锆(IV)；碳酸锆(IV)氢氧化物；羧乙基丙烯酸锆(IV)，二异丙氧化双(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)锆(IV)；乙氧化锆(IV)；丙氧化锆(IV)；甲氧化锆(IV)；乙酸锆(IV)氢氧化物；双(二乙基柠檬酸)二丙氧化锆(IV)；异丙氧化锆(IV)；三氟乙酰基丙酮酸锆(IV)；或者其组合。

14.权利要求8的井下密封剂，其中所述锆酸酯/盐的存在量是大约0.01wt％-大约10wt％，基于该聚合物的重量。