[发明专利]光学层叠膜、红外遮蔽膜及红外遮蔽体有效
| 申请号： | 201280060774.2 | 申请日： | 2012-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN104011569B | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 高友香子;野岛隆彦 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/111 | 分类号： | G02B1/111;G02B5/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 红外 遮蔽 | ||
1.一种光学层叠膜，其特征在于，在基材上具有至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元，所述低折射率层含有金属氧化物粒子及硅烷醇改性聚乙烯醇，
所述硅烷醇改性聚乙烯醇的含量相对于低折射率层的总固体成分100质量％为10～25质量％。
2.根据权利要求1所述的光学层叠膜，其中，与基材最近的最下层的折射率层相对于其它的折射率层的平均厚度具有5～12倍的厚度。
3.根据权利要求1所述的光学层叠膜，其中，所述高折射率层含有金红石型氧化钛。
4.根据权利要求1所述的光学层叠膜，其中，所述高折射率层含有硅烷醇改性聚乙烯醇。
5.根据权利要求1所述的光学层叠膜，其中，所述低折射率层还含有聚合度为1500～5000的未改性聚乙烯醇。
6.根据权利要求1所述的光学层叠膜，其中，所述低折射率层或所述高折射率层的至少1层含有选自由硼酸、硼酸盐及硼砂构成的组中的至少1种的硼化合物。
7.一种光学层叠膜的制造方法，其包含：
将低折射率层用涂布液和高折射率层用涂布液涂布于基材的工序，所述低折射率层用涂布液含有金属氧化物粒子、硅烷醇改性聚乙烯醇、粘结剂树脂和水系溶剂，所述高折射率层用涂布液含有粘结剂树脂和水系溶剂；和
将涂布了涂布液的所述基材进行干燥的工序，
其中，所述硅烷醇改性聚乙烯醇的含量相对于低折射率层的总固体成分100质量％为10～25质量％。
8.一种红外遮蔽体，其在基体的至少一面设有权利要求1～6的任一项所述的光学层叠膜、或通过权利要求7所述的制造方法而得到的光学层叠膜。
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