[发明专利]用于钟表的抗震轴承

权利要求书

1.一种制造抗震轴承的方法，所述抗震轴承包括弹性结构(10)和由所述弹性结构承载的中心部分(14)，所述中心部分具有用于接纳钟表的转动元件的枢轴的盲孔(16；16A；16B)，所述弹性结构和所述中心部分由一个一体式部件(6)形成，所述方法的特征在于下述步骤：

A)制造单晶石英晶片(6A)，该单晶石英晶片的分别是第一表面和第二表面的两个主表面基本上定向成与单晶石英的晶体结构的光轴(Z)垂直；

B)在单晶石英晶片的第一表面上形成第一掩膜(20)，所述第一掩膜通过光刻构造，以便在第一表面上限定出所述弹性结构和盲孔的轮廓；

C)通过将所述晶片放入到化学蚀刻浴中来在所述单晶石英晶片中机加工出所述弹性结构和盲孔，所述化学蚀刻浴适于对单晶石英进行非常有利于沿着所述光轴进行蚀刻的各向异性蚀刻，所述第一掩膜选择成耐受所述化学蚀刻浴的蚀刻。

2.一种制造抗震轴承的方法，所述抗震轴承包括弹性结构(10)和由所述弹性结构承载的中心部分(14)，所述中心部分具有用于接纳钟表的转动元件的枢轴的盲孔(16；16A；16B)，所述弹性结构和所述中心部分由一个一体式部件(36)形成，所述方法的特征在于下述步骤：

A)制造单晶石英晶片(36A)，该单晶石英晶片的分别是第一表面和第二表面的两个主表面基本上定向成与单晶石英的晶体结构的光轴(Z)垂直；

B)在单晶石英晶片的第一表面上形成第一初始掩膜(21A)，所述第一初始掩膜通过光刻构造，以便在第一表面上限定出所述弹性结构的轮廓，但未限定出所述盲孔的轮廓；

C)通过将所述晶片放入到化学蚀刻浴中来部分地在所述单晶石英晶片中机加工出由所述第一初始掩膜限定的所述弹性结构，所述化学蚀刻浴适于对单晶石英进行非常有利于沿着所述光轴进行蚀刻的各向异性蚀刻，所述第一初始掩膜选择成耐受所述化学蚀刻浴的蚀刻；

D)构造所述第一初始掩膜，以便限定出所述盲孔的轮廓并获得第一最终掩膜(21)；

E)通过将所述晶片再次放置到所述化学蚀刻浴中来对所述弹性结构进行最后的机加工并同时机加工出所述盲孔。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述步骤B)和所述步骤C)之间，对沉积在所述第一初始掩膜上并且用于构造所述第一初始掩膜的光敏层(23)进行照射，以随后在所述光敏层中形成与所述盲孔对应的孔口(25A)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，在所述步骤C)之前，在单晶石英晶片(6A；36A)的第二表面上形成第二掩膜(26；27)，所述第二掩膜由光蚀刻构造，以便在所述第二表面上限定出所述弹性结构的轮廓。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，机加工出的所述弹性结构具有包括弯曲的槽和/或孔口的设计，所述槽或孔口的边缘至少部分地限定出弯曲的线。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述盲孔具有三个倾斜平面(40A；40B；40C)，所述三个倾斜平面共同限定出被截去顶端的或未被截去顶端的三角锥体。

7.一种用于钟表的抗震轴承，所述抗震轴承包括弹性结构(10)和由所述弹性结构承载的中心部分(14)，所述中心部分具有用于接纳钟表的转动元件的枢轴的盲孔(16；16A；16B)，所述弹性结构和所述中心部分由一个一体式部件(6；36)形成，其特征在于，所述一体式部件由单晶石英形成，所述盲孔具有三个倾斜平面(40A；40B；40C)，所述三个倾斜平面共同限定出被截去顶端的或未被截去顶端的三角锥体。

8.根据权利要求7所述的抗震轴承，其特征在于，所述三个平面中的每一个相对于所述盲孔的中心轴线限定出约40度(40°)的角度。

9.根据权利要求7或8所述的抗震轴承，其特征在于，所述三个平面未延伸到所述一体式部件的外表面处，所述盲孔在该外表面处通向外部，并且所述盲孔的介于所述外表面与所述三个平面之间的侧表面的陡峭度比所述三个平面的陡峭度大。

10.根据权利要求9所述的抗震轴承，其特征在于，所述盲孔的所述侧表面相对于所述盲孔的中心轴线限定出的倾斜度小于20度(20°)。