[发明专利]处理装置及护罩

说明书

技术领域

本发明涉及组装在处理装置及该处理装置中的护罩。

背景技术

在阴极溅镀装置中，围着基板或对阴极配置护罩(防附着板)。护罩例如通过螺栓等固定在护罩保持部。在专利文献1中，公开了一种围着阴极溅镀蒸发源配置放附着板的装置，在该装置中，放附着板通过螺栓安装在凸缘上。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平4－311568号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在阴极溅镀装置等的处理装置中，护罩在基板的处理过程中被加热而膨胀。近年来，为了能以提高生产效率为目的把直至基板的边缘附近也用作电路图案，直至基板的边缘附近都形成了膜。为此，倾向于缩小围着基板配置的护罩与该基板的距离。在此情况下，当护罩因热而变形时，基板与护罩的位置关系偏移，可能会因此而造成制造不良。尤其是，为了允许护罩因热而变形，例如，在把护罩在其一个部位进行固定，使其它的部分能自由移动的结构中，该其它的部分会盖住基板上本来应用作电路图案的区域，而产生成膜不良。

本发明以认识上述课题为契机提出，目的是提供一种有利于提高对围住基板的护罩的变形的容许度的技术。

用于解决课题的技术手段

本发明的第1方面的对象为一种处理装置，具备基板保持部、当由上述基板保持部将基板保持时围在该基板的周围进行配置的护罩，和由磁力保持上述护罩的护罩保持部，在此，上述护罩具有多个第1磁铁和多个第2磁铁，该第1磁铁朝着上述护罩保持部配置具有第1极性的磁极，该第2磁铁朝着上述护罩保持部配置具有第2极性的磁极，上述多个第1磁铁与上述多个第2磁铁配置在相对于上述护罩的中心对称的位置，上述护罩保持部具有多个第3磁铁和多个第4磁铁，该第3磁铁朝着上述护罩配置具有上述第1极性的磁极，以便与上述多个第2磁铁间产生吸引力；该第4磁铁朝着上述护罩配置具有上述第2极性的磁极，以便与上述多个第1磁铁间产生吸引力；上述多个第3磁铁与上述多个第4磁铁配置在相对于上述护罩保持部的中心对称的位置，上述护罩保持部以容许上述护罩受热变形的方式对上述护罩进行保持，通过上述多个第1磁铁与上述多个第4磁铁之间作用的磁力和上述多个第2磁铁与上述多个第3磁铁之间作用的磁力将上述护罩的中心定位于上述护罩保持部的中心。

本发明的第2方面涉及一种护罩，该护罩在处理装置中由护罩保持部保持，为了由磁力将上述护罩固定在上述护罩保持部，上述护罩具有多个第1磁铁和多个第2磁铁，该第1磁铁对着上述护罩保持部配置有具有第1极性的磁极，该第2磁铁对着上述护罩保持部配置有具有第2磁性的磁极，上述多个第1磁铁与上述多个第2磁铁配置在相对于上述护罩的中心对称的位置。

发明效果

根据本发明，提供了有利于提高对围住基板的护罩的变形的容许度的技术。

本发明的其它的特征及优点，通过参照附图进行的以下的说明应该能够明了。另外，在附图中，对于相同或同样的构成要素赋予相同的附图标记。

附图说明

附图包含在说明书中，构成其一部分分，用于表示本发明的实施方式，与其记载一起对本发明的原理进行说明。

图1是表示本发明的实施方式的处理装置的简要结构的图。

图2是从对阴极侧看围住基板的护罩的图。

图3是从对阴极T侧看对围住基板的护罩进行保持的护罩保持部的图。

图4是示意地表示在护罩被护罩保持部保持的状态下的护罩侧的磁铁与护罩保持部侧的磁铁的位置关系的一例的图。

图5是示意地表示图4的线A中的护罩及护罩保持部的截面的图。

图6是示意地表示在护罩被护罩保持部保持的状态下的护罩侧的磁铁与护罩保持部侧的磁铁的位置关系的其它例子的图。

图7是示意地表示图6的线A中的护罩及护罩保持部的截面的图。

图8是示意地表示本发明的实施方式的效果的图。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。

图1表示本发明的实施方式的处理装置100的简要结构。处理装置100被构成为，在空腔10中的被减压的处理空间12内对基板S进行处理。处理装置100例如被构成为阴极溅镀装置、CVD装置、等离子处理装置等。以下，为了提供更加具体的例子，对构成为阴极溅镀装置的处理装置100进行说明，但是其目的不是为了对本发明的适用范围进行限制。