[发明专利]电力导入装置及使用该电力导入装置的真空处理设备

说明书

技术领域

本发明涉及电力导入装置及使用该电力导入装置的真空处理设备。更具体地，本发明涉及适于对在真空处理室内旋转被可旋转地设置的基板保持件的静电吸盘导入电力的电力导入装置，以及使用该电力导入装置的真空处理设备。

背景技术

参照图7A、7B，描述传统的电力导入装置。在专利文献1所揭示的构成中，例如图7A所示，电力导入装置的基板保持件601被保持为能在真空容器630的内部旋转。在支撑基板保持件601的旋转支柱的负荷的台座603与旋转支柱602之间，基板保持件601具有利用绕旋转支柱602的旋转轴线C的面接触的滑动面。由同心地设置的多个导电环状构件604构成的旋转接头设置成能对静电吸盘的电极稳定地供给电力，而不导致基板保持件601的旋转不稳定。对于向多个电极提供电力的双极型静电吸盘来说，将多个旋转接头沿旋转轴线方向排列，以在相邻的旋转接头之间夹住绝缘构件605a、605b，从而保持多个电极间的绝缘状态。

在该构造中，为了获得稳定地的旋转操作，绝缘构件605a、605b被设置在基板保持件601的旋转支柱602一侧上并且设置在支撑该旋转支柱等的负荷的台座603一侧上。最小限度的间隙607必须形成在各绝缘构件之间。旋转接头具有不完密封性，非常小量的液体可从旋转接头漏泄。排水口一般被形成为将漏泄的液体排出至外部。

引用文献列表

专利文献

专利文献1：日本专利公开第2008-156746号

发明内容

技术问题

但是，如图7A所示，除了相对地面将基板保持为水平的基板保持件以外，对于较大的基板和使基板处理设备节省空间来说，近年来越来越多地存在这样的基板处理设备，即，每个这样的基板处理设备在基板保持件的基板保持面的法线垂直于重力方向的状态下能使基板保持件旋转。在这种基板处理设备中，通常很难从排水口排出从旋转接头漏泄的液体。

例如，即使将在内部流路流通的纯水管理成其电阻值为大于等于10MΩ·cm，由旋转接头漏泄的纯水的电阻值也立即降低。结果，电阻值低的流体存在于多个电极间。在这种情况下，能通过该液体将多个电极点连接。

本发明是考虑到上述问题而做出的，目的在于提供一种电力导入装置，该电力导入装置能这样的处理设备中使用，该处理设备在基板保持件的基板保持面的法线垂直于重力方向的状态下使基板保持件旋转。

解决问题的方案

为实现上述目的，根据本发明提供一种电力导入装置，该电力导入装置包括：能保持基板的基板保持件；与基板保持件连接并包括第一导电支柱部和第二导电支柱部的支柱；可旋转地支撑支柱并包括第一导电壳体部和第二导电壳体部的壳体；被配置为由第一导电壳体部对第一导电支柱部供给第一电压的第一导电部；被配置为由第二导电壳体部对第二导电支柱部供给第二电压并且与第一导电部绝缘的第二导电部；与第一导电支柱部连接并被配置为将第一电压供给至基板保持件的第一电力导入构件；以及与第二导电支柱部连接并被配置为将第二电压供给至基板保持件的第二电力导入构件，其中在支柱与壳体之间的间隙中形成有：与第一导电部接触并能使冷却剂流通的第一空间和与第二导电部接触并能使冷却剂流通的第二空间，而且该电力导入装置还包括将第一空间与被施加第二电压的构件隔离并将第二空间与被施加第一电压的构件隔离的隔离装置。

发明效果

本发明能应用于在基板保持件的基板保持面的法线垂直于重力方向的状态下使基板保持件旋转从而能对具有多个电极的基板保持件稳定地供给电力的基板处理设备。

根据结合附图的如下说明，本发明的其他特征及优点将变得清楚。在附图中，相同的附图标记表示整个附图中的相同或类似的部件。

附图说明

包含在说明书中并构成其一部分的附图示出本发明的的实施例，并与说明书一起说明本发明的原理。

图1是当从侧面观察时具有本发明的第一实施例的电力导入装置的离子束蚀刻设备的示意性剖面图；

图2是从图1的线X-X观察的剖面图；

图3A是用于说明使冷却剂循环的流体流路的视图；

图3B是示出图2所示的电力导入机构的细节的视图；

图4A是示出沿图3A的线Z-Z的剖面图；

图4B是示出沿图3A的线Y-Y的剖面图；

图5是示出图3B所示的电力导入装置的电流路径的示意图；

图6A是用于说明根据本发明的第二实施例的使电力导入装置的冷却剂循环的流体流路与电力导入路径的视图；