[发明专利]溅射靶的喷涂再生

权利要求书

1.一种翻新具有经侵蚀区域的经侵蚀的溅射靶的方法，所述经侵蚀区域具有呈非平面的和限定了最大表面深度的凹陷的表面外形，所述经侵蚀的溅射靶包含靶材，所述方法包括：

将喷涂沉积枪放置在所述经侵蚀区域之上，并在第一个位置处开始靶材粒子射流的喷涂沉积，以部分地填充所述经侵蚀区域，所述喷涂沉积枪与直接在其之下的经侵蚀区域之间的倾斜角为约45°或更大；以及

在(i)相对于所述经侵蚀的溅射靶来平移所述喷涂沉积枪，(ii)将所述倾斜角变成选自约45°至约90°的范围的多个不同的值，和(iii)在所述经侵蚀的溅射靶之上的每个位置处均基于所述位置处的经侵蚀区域的深度来控制所述靶材粒子的沉积速率的同时，通过喷涂沉积所述靶材粒子来基本上填充所述经侵蚀区域。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一个位置处的倾斜角大于约60°。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在喷涂沉积之前，所述经侵蚀的溅射靶的最大表面深度小于9毫米。

4.根据权利要求1所述的方法，其中在喷涂沉积之前，所述经侵蚀的溅射靶的最大表面深度小于6毫米。

5.根据权利要求1所述的方法，其中喷涂沉积所述靶材粒子包括冷喷涂。

6.根据权利要求1所述的方法，其中(i)所述第一个位置处的倾斜角具有第一个值，和(ii)当基本上填充了所述经侵蚀区域时，所述倾斜角(a)从所述第一个值变成约90°，并且(b)其后，从约90°变成约所述第一个值。

7.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在基本上填充所述经侵蚀区域之后使所述溅射靶退火。

8.根据权利要求1所述的方法，其中基本上填充所述经侵蚀区域包括过度填充所述经侵蚀区域以形成具有非平面表面的经翻新的溅射靶，和进一步包括平面化所述经翻新的溅射靶的表面。

9.根据权利要求1所述的方法，其中尽管所述经侵蚀区域的深度在喷涂沉积期间发生变化，还是使所述喷涂沉积枪以基本上恒定的速率相对于所述经侵蚀的溅射靶平移。

10.根据权利要求1所述的方法，其中尽管所述倾斜角在喷涂沉积期间发生变化，还是使所述喷涂沉积枪以基本上恒定的速率相对于所述经侵蚀的溅射靶平移。

11.根据权利要求1所述的方法，其中控制所述靶材粒子的沉积速率包括控制所述喷涂沉积枪相对于所述经侵蚀的溅射靶的平移速率。

12.根据权利要求1所述的方法，其中控制所述靶材粒子的沉积速率包括控制粒子流向所述喷涂沉积枪的速率。

13.根据权利要求1所述的方法，其中使所述喷涂沉积枪仅直线地相对于所述经侵蚀的溅射靶平移。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述靶材为多种不同元素的合金或者混合物。

15.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在喷涂沉积之前测量所述经侵蚀区域的深度轮廓。