[发明专利]反渗透处理装置以及反渗透处理装置的清洗方法无效
申请号: | 201280062788.8 | 申请日: | 2012-12-06 |
公开(公告)号: | CN104039427A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 北村光太郎;吉川慎一;宫川浩树 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | B01D61/08 | 分类号: | B01D61/08;B01D61/10;B01D61/58;B01D65/06;C02F1/44 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 吕林红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反渗透 处理 装置 以及 清洗 方法 | ||
1.一种反渗透处理装置,其特征在于,该反渗透处理装置包括:
第1压力容器,其通过一次处理来处理被处理水,生成一次处理水以及第1透过水;
第2压力容器,其通过二次处理来处理所述一次处理水,生成二次处理水以及第2透过水;
第1清洗液存储槽,其存储对所述第1压力容器进行清洗的第1清洗液;以及
第2清洗液存储槽,其存储对所述第2压力容器进行清洗的第2清洗液,
在各所述第1压力容器以及所述第2压力容器之中具有一个包括反渗透膜在内的反渗透膜元件、或者由供透过水流过的集水配管串联连接而成的多个反渗透膜元件,所述透过水透过反渗透膜元件,
所述第1压力容器在一个端部具有导入所述被处理水的被处理水导入管,在另一个端部具有排出所述一次处理后的所述被处理水的第1浓缩水排出管、以及排出所述第1透过水的第1排出管,
所述第2压力容器在一个端部具有导入所述一次处理水的一次处理水导入管,在另一个端部具有排出所述二次处理水的第2浓缩水排出管、以及排出所述第2透过水的第2排出管,
所述第1清洗液存储槽与所述第1压力容器的所述第1浓缩水排出管连接,
所述第2清洗液存储槽与所述第2压力容器的所述一次处理水导入管连接。
2.根据权利要求1所述的反渗透处理装置,其特征在于,
所述第1清洗液存储槽与所述被处理水导入管连接,所述第2清洗液存储槽与所述第2浓缩水排出管连接。
3.根据权利要求2所述的反渗透处理装置,其特征在于,
所述反渗透处理装置包括第1泵,该第1泵使所述第1清洗液存储槽的清洗液自所述第1浓缩水排出管向所述第1压力容器内送出、然后向所述被处理水导入管送出,
所述反渗透处理装置包括第2泵,该第2泵使来自所述第2清洗液存储槽的清洗液自所述一次处理水导入管向所述第2压力容器内送出、然后向所述第2浓缩水排出管送出。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的反渗透处理装置,其特征在于,
所述反渗透处理装置在所述第1压力容器的所述被处理水用的上游侧以及所述一次处理水用的下游侧具有压力计,
在所述第2压力容器的所述一次处理水用的上游侧以及所述二次处理水用的下游侧具有压力计,
通过所述第1压力容器的上游侧以及下游侧的差压检测所述第1压力容器的污垢,
通过所述第2压力容器的上游侧以及下游侧的差压检测所述第2压力容器的污垢。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的反渗透处理装置,其特征在于,
所述第1清洗液存储槽内的第1清洗液包含去除有机类、微生物类的污垢的清洗液,所述第2清洗液存储槽内的第2清洗液包含去除无机类的污垢的清洗液。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的反渗透处理装置,其特征在于,
所述反渗透处理装置具有冲洗液存储槽,该冲洗液存储槽存储对所述第1压力容器内的第1清洗液以及所述第2压力容器内的第2清洗液进行冲洗的冲洗液。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的反渗透处理装置,其特征在于,
所述冲洗液是所述第1透过水、第2透过水或者所述被处理水。
8.一种反渗透处理装置的清洗方法,其特征在于,
确认通过一次处理而处理的被处理水的第1压力容器的差压和使通过所述一次处理而处理后的所述被处理水通过二次处理而处理的第2压力容器的差压,判断所述第1压力容器与所述第2压力容器的污垢,
基于所述第1压力容器的差压与所述第2压力容器的差压,确定自所述第1压力容器以及第2压力容器应清洗的特定的压力容器,
选择包含清洗药剂的清洗液,该清洗药剂对应于具有利用所述差压确认工序认定的污垢的所述特定的压力容器,
由所述清洗液对所述确定的压力容器进行清洗,
确认所述清洗工序后的所述第1压力容器以及第2压力容器的各自的压力差,判断清洗结束。
9.根据权利要求8所述的反渗透处理装置的清洗方法,其特征在于,
在所述清洗结束判断工序之前或者之后冲洗所述清洗液。
10.根据权利要求8或9所述的反渗透处理装置的清洗方法,其特征在于,
在所述冲洗工序中使用的冲洗液是利用所述反渗透处理装置生产的透过水或者所述被处理水。
11.根据权利要求8或9所述的反渗透处理装置的清洗方法,其特征在于,
在与第1压力容器以及第2压力容器的使用前的差压相比较,所述差压确认工序中的差压的上升达到5%~40%以下的范围的情况下进行清洗。
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