[发明专利]由去污装置和至少一个预型件构成的组件、制造无菌容器的设备和方法

权利要求书

1.组件(1)，所述组件包括用以制造容器的至少一个热塑性材料预型件(12)和对预型件(12)内部进行去污的去污装置(10)，其中，所述预型件(12)包括颈部(44)，所述颈部通过由底部(42)封闭的主体(40)轴向地延伸，所述颈部界定进出所述预型件(12)内部的开口(18)，

其特征在于，所述去污装置(10)包括至少一个支承机构(20)，所述支承机构承载辐照去污部件(22)，所述辐照去污部件由半导体类型的器件构成，所述器件用于通过开口(18)被引入到所述预型件(12)内部，以在待去污的预型件(12)的内部选择性地发射至少一种紫外线辐射。

2.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，形成所述辐照去污部件(22)的所述器件中的至少一个器件发射“C”类型的紫外线辐射，所述“C”类型的紫外线辐射具有波长在100nm到280nm之间的至少一个主发射谱线。

3.根据权利要求1或2所述的组件，其特征在于，形成所述辐照去污部件(22)的所述器件中的至少一个器件发射“A”类型的紫外线辐射，所述“A”类型的紫外线辐射具有波长在315nm到400nm之间的至少一个主发射谱线。

4.根据权利要求1到3中任一项所述的组件，其特征在于，所述辐照去污部件(22)由形成至少第一器件组和第二器件组的器件构成；并且，至少所述第一器件组由至少一个器件构成，所述第一器件组的所述至少一个器件发射的紫外线辐射具有波长在100nm到400nm之间的至少一个主发射谱线。

5.根据权利要求4所述的组件，其特征在于，所述第二器件组由至少一个器件构成，所述第二器件组的所述至少一个器件发射红外线辐射，所述红外线辐射具有波长在780nm到1mm之间的至少一个主发射谱线。

6.根据权利要求1到5中任一项所述的组件，其特征在于，所述去污装置(10)包括致动部件(38)，所述致动部件被选择性地控制，以引起所述支承机构(20)和所述预型件(12)之间相对移动，以便暂时性地将所述辐照去污部件(22)引入所述预型件(12)内部。

7.根据权利要求1到6中任一项所述的组件，其特征在于，所述辐照去污部件(22)由这样的器件构成：器件被布置在所述支承机构(20)的用于被接纳在所述预型件(12)内部的段部的整个高度(h)或一部分高度上。

8.根据权利要求1到7中任一项所述的组件，其特征在于，所述辐照去污部件(22)由这样的器件构成：器件被布置在所述支承机构(20)的整个周廓上，以便朝所有方向、以基本360°发射辐射，以对所述预型件(12)内部进行去污。

9.根据权利要求1到8中任一项所述的组件，其特征在于，用于支承器件的所述支承机构(20)被选择性地带动转动，以用至少一种紫外线辐射扫掠所述预型件(12)内部。

10.根据权利要求1到9中任一项所述的组件，其特征在于，所述去污装置(10)包括控制单元(36)，所述控制单元选择性地控制器件，以控制所述至少一种紫外线辐射的发射或不发射。

11.根据权利要求1到10中任一项所述的组件，其特征在于，用于支承器件的所述支承机构(20)由用于制造容器的预型件(12)模制单元的拉伸杆构成。

12.根据权利要求1到11中任一项所述的组件，其特征在于，所述去污装置(10)包括用于冷却器件的冷却部件(30)，所述冷却部件(30)至少由所述支承机构(20)构成，至少通过传导排出器件在运行时所产生的热量。

13.根据权利要求12所述的组件，其特征在于，所述支承机构(20)包括冷却回路，用以在所述支承机构(20)的内部选择性地建立载热流体的循环。

14.根据前述权利要求中任一项所述的组件，其特征在于，形成所述辐照去污部件(22)的所述器件中的至少一部分器件是发光二极管。

15.根据前述权利要求中任一项所述的组件，其特征在于，形成所述辐照去污部件(22)的所述器件中的至少一部分器件是激光二极管。