[发明专利]基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法

说明书

技术领域

本发明是关于基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法。

本申请案根据2011年12月20日申请的日本特愿2011－278290号及2012年2月7日申请的日本特愿2012－024058号主张优先权，将其内容援引用于此。

背景技术

曝光装置等基底处理装置，例如下述的专利文献1所记载，用于各种器件的制造。基底处理装置，能将配置于照明区域的光掩膜M上所形成的图案像投影于配置在投影区域的基底上等。用于基底处理装置的光掩膜M有平面状的、圆筒状的。

又，作为制造器件的方法之一，已知有例如下述的专利文献2所记载的卷对卷(roll to roll)方式。卷对卷方式，是一边从送出用卷筒往回收用卷筒搬送膜等基底，一边在搬送路径上对基底进行各种方式的处理。基底有时会例如在搬送滚筒之间等以实质上平面的状态被施以处理。又，基底亦有例如在滚筒表面上等以弯曲的状态被施以处理的情形。

现有技术文献：

[专利文献1]日本特开2007-299918号公报；

[专利文献2]国际公开第2008/129819号。

发明内容

发明欲解决的课题：

如上述的基底处理装置(曝光装置)，在例如光掩膜上的照明区域与基底上的投影区域的一方或双方以既定曲率弯曲的情形，若考量用于曝光的投影光学系统的成像性能，则特别是会在成像光束的主光线的设定上产生限制。例如，试假定将形成于半径R的圆筒状旋转光掩膜的外周圆筒面的光掩膜图案通过投影光学系统成像投影于卷绕在半径R的圆筒旋转卷筒(滚筒)的基底(膜、片、网等)表面的情形。此情形下，一般而言，只要设置从光掩膜图案(圆筒面状)至基底表面(圆筒面状)的成像光束的主光线会形成将圆筒状旋转光掩膜的旋转中心轴与圆筒旋转卷筒的旋转中心轴直线连结的光路的投影光学系统即可。

然而，当在圆筒状旋转光掩膜的旋转轴方向，光掩膜图案的尺寸较大的情形，有时需将此种投影光学系统于旋转轴的方向设置多个而多个化。此种多个化的情形，即使将多个投影光学系统于旋转轴的方向紧密地排成一列，各投影光学系统的投影视野(投影区域)彼此必定会分离镜筒等金属物的厚度，如此已无法将大光掩膜图案忠实地曝光。

又，如上述的基底处理装置在例如装置的构成复杂时，则有可能有装置成本提高、装置尺寸变大的情形。其结果，有可能使器件的制造成本提高。

例如，当必须施以精密图案化时，作为基底处理装置，使用照明描绘有电子器件或显示器件的图案的光掩膜、并将来自光掩膜的图案的光投影曝光于形成有感光层(光阻等)的基底上的曝光装置。在通过卷对卷方式将光掩膜的图案反复曝光于连续搬送的柔性长条基底(膜、片、网等)的情形，若亦使用以长条基底的搬送方向作为扫描方向、采用圆筒状旋转光掩膜作为光掩膜的扫描型曝光装置，则可期待生产性跳跃性地提高。

此种旋转光掩膜，有于玻璃等透明圆筒体外周面以遮光层形成有图案的透射方式与于金属性圆筒体(亦可为圆柱体)的外周面以反射部与吸收部形成有图案的反射方式。透射型的圆筒光掩膜，必须于该圆筒光掩膜内部组装用以照射朝向外周面的图案的照明光的照明光学系统(反射镜、透镜等光学构件)，难以将旋转轴通过圆筒光掩膜的内部中心，而亦有圆筒光掩膜的保持构造或旋转驱动系统的构成变得复杂的情形。

另一方面，反射型的圆筒光掩膜的情形，由于能使用金属制的圆筒体(或圆柱体)，因此虽能廉价地作成光掩膜，但必须于圆筒光掩膜的外周空间设置照射曝光用的照明光的照明光学系统与将来自形成于外周面的图案的反射光往基底投影的投影光学系统，而有为了满足被要求的解像力或转印忠实度等的曝光装置侧的构成变得复杂的情形。

本发明的形态，其目的在于提供一种基底处理装置，搭载有即使光掩膜或基底(膜、片、网等柔性基底)的一方或双方配置成圆筒面状亦能将较大光掩膜图案忠实地曝光所使用的投影光学系统。其他目的，为提供能将较大光掩膜图案忠实地曝光的器件制造系统及器件制造方法。

又，其他目的为提供能将装置的构成简化的基底处理装置。又，其他目的为能提供能减低制造成本的器件制造系统及器件制造方法。

用以解决课题的手段：