[发明专利]薄膜的成膜装置

权利要求书

1.一种薄膜的成膜装置，其特征在于，具备：

真空腔室，用于使用发热体在真空状态下在容器的表面进行成膜；

真空排气单元，对所述真空腔室进行抽真空；及

相对移动单元，在所述真空腔室的抽真空开始后，在所述真空腔室内使容器与发热体相对移动。

2.根据权利要求1所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述相对移动单元使容器和所述发热体以可变速的方式相对移动。

3.根据权利要求1或2所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

将所述真空腔室分割成用于进行容器的成膜的成膜用腔室和用于将所述发热体保持为真空状态的发热体保护用腔室，在所述成膜用腔室与所述发热体保护用腔室之间设有真空隔离单元。

4.根据权利要求3所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述相对移动单元使所述发热体移动。

5.根据权利要求3所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

将所述成膜用腔室和所述发热体保护用腔室分别与单独的真空排气单元连接。

6.根据权利要求3所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述成膜用腔室在容器成膜时从大气压被抽真空而成为真空状态，在成膜结束后恢复成大气压。

7.根据权利要求3所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述发热体保护用腔室始终被维持在真空状态。

8.根据权利要求3所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述真空隔离单元在所述成膜用腔室被抽真空时打开，使所述成膜用腔室与所述发热体保护用腔室连通。

9.根据权利要求8所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述发热体在所述真空隔离单元打开之后被插入到所述成膜用腔室内，在成膜结束后返回到所述发热体保护用腔室。

10.根据权利要求9所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述真空隔离单元在成膜结束后所述发热体返回到所述发热体保护用腔室之后关闭。

11.根据权利要求1或2所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

将所述真空腔室分割成用于将所述发热体保持成真空状态并进行容器的成膜的成膜专用腔室和用于将容器向所述成膜专用腔室放入或从所述成膜专用腔室取出的容器取放用腔室，在所述成膜专用腔室与所述容器取放用腔室之间设有真空隔离单元。

12.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述相对移动单元使容器移动。

13.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

将所述成膜专用腔室和所述容器取放用腔室分别与单独的真空排气单元连接。

14.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述成膜专用腔室始终被维持在真空状态。

15.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述容器取放用腔室在容器成膜时从大气压被抽真空而成为真空状态，在成膜结束后的容器取出时恢复成大气压。

16.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述真空隔离单元在所述容器取放用腔室被抽真空而成为真空状态时打开，使所述成膜专用腔室与所述容器取放用腔室连通。

17.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

在使容器移动到所述成膜专用腔室内时，所述发热体被插入到容器内。

18.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述容器取放用腔室具备用于向所述容器取放用腔室放入容器或从所述容器取放用腔室取出容器的开闭闸。

19.根据权利要求11所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述薄膜的成膜装置具备容器输送装置，所述容器输送装置将未处理的容器从预定位置向所述容器取放用腔室输送，并将处理完的容器从所述瓶出入用腔室向预定位置输送。

20.根据权利要求19所述的薄膜的成膜装置，其特征在于，

所述预定位置是输送机上的位置。