[发明专利]太阳能电池及其制造方法有效
申请号: | 201280065757.8 | 申请日: | 2012-11-08 |
公开(公告)号: | CN104025309A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 朴起昆 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/18 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 许向彤;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
1.一种太阳能电池,包括:
在支撑衬底上的背电极层;
在所述背电极层上的光吸收层;
在所述光吸收层上的缓冲层;以及
在所述缓冲层上的前电极层,
其中所述缓冲层具有朝着其底表面逐渐减小的带隙能量。
2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述缓冲层用以下化学式1表示,
化学式1
ZnO1-xSx(0.2≤X≤0.8)。
3.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述缓冲层的带隙能量从所述缓冲层与所述前电极层之间的界面朝着所述缓冲层与所述光吸收层之间的界面逐渐减小。
4.根据权利要求3所述的太阳能电池,其中所述缓冲层的带隙能量在2.83eV到3.3eV的范围内。
5.根据权利要求2所述的太阳能电池,其中硫(S)的含量依据在所述缓冲层中的位置而变化。
6.根据权利要求5所述的太阳能电池,其中硫(S)的含量朝着所述缓冲层的底表面从0.8减小到0.5。
7.根据权利要求5所述的太阳能电池,其中硫(S)的含量朝着所述缓冲层的底表面从0.2增加到0.5。
8.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述缓冲层包括在所述光吸收层上的第一缓冲层,以及在所述第一缓冲层上的第二缓冲层,并且所述第二缓冲层的带隙能量大于所述第一缓冲层的带隙能量。
9.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述缓冲层的带隙能量高于所述光吸收层的带隙能量,并且低于所述前电极层的带隙能量。
10.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述缓冲层的厚度在15nm到70nm的范围内。
11.根据权利要求8所述的太阳能电池,其中所述第一缓冲层包括硫化镉(CdS)层,并且所述第二缓冲层用以下化学式1表示,
化学式1
ZnO1-xSx(0.2≤X≤0.8)。
12.根据权利要求11所述的太阳能电池,其中硫化镉(CdS)的镉离子(Cd2+)分散到提供在所述光吸收层与所述第一缓冲层接触的一部分中的铜(Cu)的空隙中。
13.根据权利要求11所述的太阳能电池,其中所述缓冲层进一步包括通过所述第一缓冲层与所述第二缓冲层反应形成的第三缓冲层,同时插设在所述第一缓冲层与所述第二缓冲层之间,并且所述第三缓冲层包括CdZnS层。
14.一种太阳能电池的制造方法,所述方法包括:
在支撑衬底上形成背电极层;
在所述背电极层上形成光吸收层;
在所述光吸收层上形成缓冲层;以及
在所述缓冲层上形成前电极层,
其中所述缓冲层具有朝着其底表面逐渐减小的带隙能量。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述缓冲层用以下化学式1表示,
化学式1
ZnO1-xSx(0.2≤X≤0.8)。
16.根据权利要求14所述的方法,其中,在形成所述缓冲层的过程中,所述缓冲层的带隙能量从所述缓冲层与所述前电极层之间的界面朝着所述缓冲层与所述光吸收层之间的界面减小。
17.根据权利要求14所述的方法,其中所述缓冲层通过选自以下方案中的一种形成:化学浴沉积(CBD)、原子层沉积(ALD)、金属有机化学气相沉积(MOCVD)、溅镀、蒸镀,以及电沉积。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的