[发明专利]透明导电性膜有效

专利信息
申请号: 201280065821.2 申请日: 2012-12-21
公开(公告)号: CN104040644A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 森本芳孝;田仲拓郎;大熊康之;黒松亜纪 申请(专利权)人: 捷恩智株式会社
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;B32B3/16;B32B9/00;B32B15/08;B32B27/18;G06F3/041
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 透明 导电性
【权利要求书】:

1.一种透明导电性膜,其具备:由膜状高分子树脂形成的透明的基材;

层叠于所述基材的一面上的第1硬涂层;以及

层叠于所述第1硬涂层的上侧的第1透明导电体层,

所述基材具有2μm~250μm的膜厚,

所述第1硬涂层是由含有无机氧化物的硬化性树脂形成,且具有0.01μm以上且小于0.5μm、或超过6μm且10μm以下的膜厚,

所述第1透明导电体层是由选自由无机氧化物、金属、碳所组成的组群中的至少1种形成,具有10nm~2μm的膜厚,且经图案化而形成有图案部与非图案部。

2.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其中所述第1硬涂层所含有的无机氧化物的粒径是体积平均粒径为10nm~100nm的微粒子,所述第1硬涂层中含有5重量%~95重量%的无机氧化物。

3.根据权利要求1或2所述的透明导电性膜,其中具备层叠于所述第1硬涂层与所述第1透明导电体层之间的第1透明介电层;

所述第1透明介电层是由无机物形成,且具有10nm~100nm的膜厚。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的透明导电性膜,其中所述第1硬涂层的折射率为1.40~1.90;在具有所述第1透明介电层的情况下,所述第1透明介电层的折射率为1.30~1.50。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的透明导电性膜,其中所述基材是由选自由聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、三乙酰纤维素、及聚碳酸酯所组成的组群中的至少1种形成,

形成所述第1硬涂层的硬化性树脂为紫外线硬化性树脂,

所述第1透明导电体层是由选自由氧化铟锡、氧化铟锌、添加镓的氧化锌、添加铝的氧化锌、银、铜、碳所组成的组群中的至少1种形成;

在具有所述第1透明介电层的情况下,所述第1透明介电层是由二氧化硅形成。

6.一种图像显示装置,其具备:具有如权利要求1-5中任一项所述的透明导电性膜的触控面板;

设置于所述透明导电性膜的基材侧的图像面板。

7.一种图像显示装置,其具备:通过接触而进行输入的触控面板;

显示影像的图像面板;

具有如权利要求1-5中任一项所述的透明导电性膜,且载置于所述触控面板与所述图像面板之间的电磁波屏蔽层。

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