[发明专利]质量分析装置有效
| 申请号： | 201280066503.8 | 申请日： | 2012-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN104040680A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 长谷川英树;佐竹宏之;管正男;桥本雄一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J49/06 | 分类号： | H01J49/06;G01N27/62;H01J49/26 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;严星铁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 质量 分析 装置 | ||
1.一种质量分析装置，其将在大气压下生成的离子导入由真空排气机构排气后的真空室，并对上述离子的质量进行分析，
上述质量分析装置的特征在于，
具有开设有将上述离子导入上述真空室的离子导入孔的电极，上述电极的离子导入孔被分割为第一区域、第二区域以及第三区域，
上述第一区域和上述第三区域双方或者任一方的离子导入孔的中心轴方向与上述第二区域的离子导入孔的内部的上述离子的流动方向的轴不同，
上述第二区域除与上述第一区域和上述第三区域连接的出口以外没有出口，
上述电极能够在上述第一区域或上述第三区域与上述第二区域之间、或者第二区域的中途部分分离，
上述第一区域和上述第三区域的离子导入孔的轴具有偏心的位置关系。
2.根据权利要求1所述的质量分析装置，其特征在于，
上述第三区域的离子导入孔的孔径为1.5mm以下。
3.根据权利要求1所述的质量分析装置，其特征在于，
上述第二区域的内部的压力在1万Pa以上且5万Pa以下的范围。
4.根据权利要求1所述的质量分析装置，其特征在于，
上述第一区域的离子导入孔的孔径为1mm以下。
5.根据权利要求1所述的质量分析装置，其特征在于，
上述第一区域和上述第三区域双方或者任一个的离子导入孔的截面形状与上述第二区域的离子导入孔的截面形状不同。
6.根据权利要求1所述的质量分析装置，其特征在于，
具有多个上述第一区域的离子导入孔。
7.根据权利要求1所述的质量分析装置，其特征在于，
具有多个上述第三区域的离子导入孔。
8.根据权利要求1所述的质量分析装置，其特征在于，
具有聚集上述离子的离子聚集电极，上述第三区域配置在上述第二区域与上述离子聚集电极之间。
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