[发明专利]光刻设备和装置制造方法

权利要求书

1.一种曝光设备，包括：

投影系统，其包括固定部件和运动部件，能够投影多个辐射光束到目标上的根据图案选择的位置上；以及

控制器，能够控制设备以第一模式或第二模式操作；

其中在第一模式，投影系统输送第一量的能量到所选位置，并且在第二模式，投影系统输送大于第一量的能量的第二量的能量到所选位置；以及

其中，在第一模式，投影系统以第一速率投影多个辐射光束到所选位置上，并在第二模式，投影系统以第二速率投影多个辐射光束到所选位置上，第二速率低于或等于第一速率。

2.根据权利要求1所述的设备，包括：

衬底支承件，其能够支承具有目标的衬底并使衬底相对于投影系统在扫描方向上运动，使得投影系统能够投影在衬底的连续扫描区域上；

其中在第一模式，衬底相对于投影系统以第一速度运动，并且在第二模式，衬底相对于投影系统以低于第一速度的第二速度运动。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，第二模式包括第一子模式，在第一子模式，第二速率大致等于第一速率，并且第二速度比第一速度低一整数因数，使得每个扫描区域与整数数量的其他扫描区域部分重叠。

4.根据权利要求2所述的设备，其中，第二模式包括第二子模式，在第二子模式中，第二速率比第一速率低一减速因数，并且第二速度比第一速度低该减速因数。

5.根据权利要求2所述的设备，其中，第二模式包括第三子模式，在第三子模式中，第二速率比第一速率低一减速因数，并且第二速度比第一速度低该减速因数与整数因数的乘积，其中每个扫描区域与整数数量的其他扫描区域部分重叠。

6.根据权利要求2所述的设备，其中，第二模式包括第四子模式，在第四子模式中，第二速度比第一速度低一整数因数，并且第四子模式中的投影到衬底的辐射光束的辐射强度比第一模式低。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，第二模式包括第五子模式，在第五子模式中，控制器能够控制衬底支承件以便相对于投影系统重复衬底运动，以控制每个扫描区域通过投影系统辐射的次数，其中投影到衬底的辐射光束的辐射强度在扫描之间变化。

8.根据权利要求2所述的设备，其中，在第二模式中，控制器能够控制衬底支承件以便相对于投影系统重复衬底运动，以控制每个扫描区域通过投影系统辐射的次数。

9.根据权利要求3、5或8所述的设备，其中，在每个重叠区域中，所有所选位置被辐射整数次数。

10.根据权利要求2所述的设备，其中，每个扫描区域在扫描方向上大致邻接至少一个其他扫描区域。

11.根据权利要求2所述的设备，其中，每个扫描区域在扫描方向上具有大致相同的长度。

12.根据权利要求2所述的设备，其中，在第一模式中，在任何扫描区域之间基本上没有重叠。

13.根据权利要求1所述的设备，其中，运动部件能够相对于固定部件转动。

14.一种装置制造方法，包括：

使用包括固定部件和运动部件的投影系统来投影多个辐射光束到根据图案选择的目标上的位置上；并且

控制设备以第一模式或第二模式操作；

其中在第一模式中，投影将第一量的能量输送到所选位置，并且在第二模式中，投影将大于第一量的能量的第二量的能量输送到所选位置；以及

其中，在第一模式，投影系统以第一速率投影多个辐射光束到所选位置上，并在第二模式，投影系统以第二速率投影多个辐射光束到所选位置上，第二速率低于或等于第一速率。