[发明专利]用于改进在预处理的金属基底上的可电沉积的涂料组合物的泳透力的树脂基后冲洗

权利要求书

1.一种涂覆基底的方法，其包括：

(a)将该基底与预处理溶液接触，该溶液包含IIIB族金属和/或IVB族金属和正电金属；

(b)将该基底与包含阴离子树脂的基于阴离子树脂的后冲洗组合物接触，其中所述阴离子树脂包括亚磷化的环氧树脂；和

(c)将可阳离子电沉积的涂料组合物电泳沉积到该基底上。

2.根据权利要求1所述的方法，其中步骤(a)在步骤(b)之前进行，和其中步骤(b)在步骤(c)之前进行。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述IIIB族金属和/或IVB族金属包括锆。

4.根据权利要求1所述的方法，其中与没有步骤(b)而施涂到基底上的所述可阳离子电沉积的涂料组合物的泳透力相比，该可阳离子电沉积的涂料组合物的泳透力增加了至少6％。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述IIIB族金属和/或IVB族金属包括IIIB族金属化合物和/或IVB族金属化合物。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述IVB族金属化合物包括锆化合物。

7.根据权利要求1所述的方法，其中步骤(b)包括：

将该基底浸入包含基于阴离子树脂的后冲洗组合物的浴液中；

从所述浴液中取出该基底；和

用水冲洗该基底。

8.根据权利要求1所述的方法，其中步骤(b)包括：

用基于阴离子树脂的后冲洗组合物喷涂该基底；和

在步骤(c)之前，干燥该基底上的基于阴离子树脂的后冲洗组合物。

9.一种基底，其是根据权利要求1所述的方法涂覆的。

10.一种涂覆基底的方法，其包括：

(a)将该基底与预处理溶液接触，该溶液包含IIIB族和/或IVB族金属和正电金属；

(b)将该基底与包含阳离子树脂的基于阳离子树脂的后冲洗组合物接触，其中所述阳离子树脂包括三氨基环氧树脂；和

(c)将可阴离子电沉积的涂料组合物电泳沉积到该基底上。

11.根据权利要求10所述的方法，其中步骤(a)在步骤(b)之前进行和其中步骤(b)在步骤(c)之前进行。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述IVB族金属包括锆。

13.根据权利要求10所述的方法，其中所述IIIB族金属和/或IVB族金属包括IIIB族金属化合物和/或IVB族金属化合物。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述IVB族金属化合物包括锆化合物。

15.根据权利要求10所述的方法，其中步骤(b)包括：

将该基底浸入包含基于阳离子树脂的后冲洗组合物的浴液中；

从所述浴液除去该基底；和

用水冲洗该基底。

16.根据权利要求10所述的方法，其中与没有步骤(b)而施涂到基底上的所述可阴离子电沉积的涂料组合物的泳透力相比，该可阴离子电沉积的涂料组合物的泳透力增加了至少6％。

17.根据权利要求10所述的方法，其中所述阳离子树脂包含环氧树脂的胺加成物。

18.一种涂覆的基底，其是根据权利要求10所述的方法涂覆的。