[发明专利]具有光学涂层和易清洁涂层的玻璃制品的制备方法

权利要求书

1.一种用于制备玻璃制品的方法，所述玻璃制品具有在所述玻璃制品中的光学涂层和在所述光学涂层顶部的易清洁ETC涂层，所述方法包括：

提供涂覆设备，该涂覆设备具有用于沉积光学涂层和ETC涂层的至少一个腔室；

在所述腔室内提供用于所述光学涂层的源材料和用于所述ETC涂层的源材料，其中当需要多种源材料来制备所述光学涂层时，在分开的源容器中各自提供所述多种源材料；

提供待涂覆的衬底，所述基材具有长度、宽度和厚度，以及具有由所述长度和所述宽度形成的玻璃表面之间的至少一种边缘；

将所述腔室排空至小于或等于10^-4托的压力；

在所述基材上沉积所述光学涂层材料，以形成光学涂层；

停止沉积所述光学涂层；

在沉积所述光学涂层之后，在所述光学涂层顶部沉积所述ETC涂层；

停止沉积所述ETC涂层；

从所述腔室取出所述基材，由此提供具有光学涂层和ETC涂层的玻璃制品；以及

在空气中或在相对湿度RH为40％<RH<100％的潮湿环境中，在60-200℃的温度范围中将所述制品后处理5-60分钟范围的时间，从而在所述ETC涂层和沉积在所述基材上的所述光学涂层之间形成强力的化学连接，并在ETC涂层分子之间形成交联；

其中所述光学涂层是多层涂层，其由具有在1.7-3.0范围的折射率的高折射率材料H、和选自(i)和(ii)中一种材料的交替层组成，

(i)具有1.3-1.6范围的折射率的低折射率材料L氧化物以及(ii)具有1.6-1.7范围的折射率的中等折射率材料；铺设顺序为H(L或M)或者(L或M)H,且将各对H(L或M)或者(L或M)H的层认为是一涂层周期；以及

所述H层和所述L(或M)层的厚度各自独立，在单个周期中各自在5纳米-200纳米的范围。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述多层光学涂层中的周期数目范围是2-20，且所述多层涂层的厚度范围是100纳米-2000纳米。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述高折射率材料选自下组：ZrO₂,HfO₂,Ta₂O₅,Nb₂O₅,TiO₂,Y₂O₃,Si₃N₄,SrTiO₃和WO₃。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述低折射率材料选自下组：氧化硅、熔融石英和氟掺杂的熔融石英、MgF₂,CaF₂,YF和YbF₃，且所述中等折射率材料是Al₂O₃。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述ETC涂层材料选自下组：

具有通式(R_F)_ySiX_4-y的全氟烷基硅烷，其中R_F是直链全氟烷基且具有从硅原子到该链最大长度处端部的6-130个碳原子的碳链长度，X＝Cl、乙酰氧基、-OCH₃或-OCH₂CH₃且y＝1或2；以及

具有通式[CF₃-CF₂CF₂O)_a]_ySiX_4-y的全氟聚醚硅烷，其中a的范围是5-10，y＝1或2，且X是-Cl、乙酰氧基、-OCH₃或-OCH₂CH₃,其中从硅原子到该链最大长度处端部的全氟聚醚链总长度范围是6-130个碳原子。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，化学连接至所述光学涂层的所述ETC涂层的厚度范围是1纳米-20纳米。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在第一腔室中沉积所述光学涂层并在第二腔室中沉积所述ETC涂层，用真空密封件/隔离锁连接所述两腔室，用于将所述基材从所述第一腔室转移到所述第二腔室，却不将所述基材暴露于大气。