[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法

权利要求书

1.一种等离子处理装置，其特征在于，具有：

波导路构件，其用于形成与长度方向正交的方向上的截面呈矩形的波导路；

电场形成用的第一电极和第二电极，其配置为面对等离子形成空间，与上述波导路构件协作来形成上述波导路，并且与该波导路构件电连接；

传送路，其从上述长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；

电介质板，其配置于上述波导路内，并沿着上述长度方向延伸；以及

至少一个导电体，其在上述波导路内相对于上述电介质板配置在该波导路的宽度方向上的至少一侧，且沿着上述电介质板延伸，并且与上述第一电极和第二电极中的一者电连接。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述至少一个导电体包含形成于上述电介质板的表面的金属膜。

3.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述至少一个导电体包含与上述电介质分开配置的金属板。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述电介质板的一部分配置于上述第一电极和第二电极之间，使该第一电极和第二电极之间电分离。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述传送路包含同轴管，

上述至少一个导电体具有配置在上述电介质板的两侧、并且分别与上述第一电极和第二电极电连接的第一导电体和第二导电体，

上述同轴管的内部导体在上述长度方向上的规定位置处连接于第一导电体和第二导电体中的一者，上述同轴管的外部导体在上述长度方向上的规定位置处连接于第一导电体和第二导电体中的另一者。

6.根据权利要求5所述的等离子处理装置，其特征在于，

还具有供上述同轴管的一部分插入的规定长度的金属管，

上述金属管连接于基准电位，并且其一端部连接于上述波导路构件，其另一端部连接于上述同轴管的外部导体。

7.根据权利要求6所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述传送路包含同轴管，

上述至少一个导电体仅设于上述电介质板的一侧，

上述同轴管的外部导体连接于上述波导路构件，内部导体贯穿上述电介质板而连接于上述至少一个导电体。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

以从上述传送路供给的规定的等离子激励频率的高频共振的方式构成上述波导路。

9.一种等离子处理方法，其特征在于，具有：

将被处理体设置于在内部设有等离子发生机构的容器内的与上述等离子形成空间面对的位置处的步骤；以及

利用上述等离子发生机构激励等离子以对上述被处理体进行等离子处理的步骤，

该等离子发生机构具有：波导路构件，其用于形成与长度方向正交的方向上的截面呈矩形的波导路；电场形成用的第一电极和第二电极，其配置为面对等离子形成空间，与上述波导路构件协作来形成上述波导路，并且与该波导路构件电连接；传送路，其从上述长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；电介质板，其配置于上述波导路内，并沿着上述长度方向延伸；以及至少一个导电体，其在上述波导路内相对于上述电介质板配置在该波导路的宽度方向上的至少一侧，且沿着上述电介质板延伸，并且与上述第一电极和第二电极中的一者电连接。