[发明专利]金属氧化膜的制造方法和金属氧化膜有效
| 申请号： | 201280069377.1 | 申请日： | 2012-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN104105817A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 白幡孝洋;织田容征;平松孝浩 | 申请（专利权）人： | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
| 主分类号： | C23C18/12 | 分类号： | C23C18/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 氧化 制造 方法 | ||
1.一种金属氧化膜的制造方法，其特征在于，具备：
(A)通过将含锌溶液(5)雾化，并将该雾化后的溶液在非真空下对基板(1)进行喷雾，从而在所述基板上使金属氧化膜(10)成膜的工序；和
(B)通过对所述金属氧化膜照射紫外线(13)，从而使所述金属氧化膜的电阻降低的工序；
所述工序(B)具有：
(B－1)根据所述金属氧化膜的膜厚确定将要照射的所述紫外线的波长的工序、和
(B－2)向所述金属氧化膜照射具有所述工序(B－1)中确定的波长的所述紫外线的工序。
2.根据权利要求1所述的金属氧化膜的制造方法，其特征在于，
在所述工序(B－1)中，
随着所述金属氧化膜的膜厚变厚，作为所述紫外线的所述波长而选择大的值。
3.根据权利要求1所述的金属氧化膜的制造方法，其特征在于，
在所述工序(B－1)中，
在所述金属氧化膜的膜厚小于590nm时，选择至少包含254nm的所述波长。
4.根据权利要求1所述的金属氧化膜的制造方法，其特征在于，
在所述工序(B－1)中，在所述金属氧化膜的膜厚大于590nm时，选择至少包含365nm的所述波长。
5.根据权利要求1所述的金属氧化膜的制造方法，其特征在于，
还具备(C)对所述金属氧化膜进行加热的工序，
所述工序(B)在所述工序(C)之后实施。
6.一种金属氧化膜，其特征在于，
通过权利要求1～5中的任意一项所述的金属氧化膜的制造方法制作。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝三菱电机产业系统株式会社，未经东芝三菱电机产业系统株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280069377.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
