[发明专利]制备低气味的甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法

权利要求书

1.一种制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，所述方法包括将甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物用至少一种类型的酸性无机盐处理的过程，所述方法的特征在于所述酸性无机盐在25℃下为固体并为水溶性的，并且通过将50g所述酸性无机盐溶于1L离子交换水而制备的水溶液在25℃下的pH为4或更低。

2.一种制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，其中根据权利要求1所述的制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法还包括过程[A]，所述过程[A]通过经历：

(a)在分子链末端具有碳碳双键的甘油衍生物与

(b)有机氢聚硅氧烷的硅氢加成反应而合成甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物；以及

过程[B]，所述过程[B]与所述合成过程[A]一起或在所述合成过程[A]之后

将甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物在存在至少一种类型的(c)酸性无机盐的情况下处理，所述方法的特征在于所述酸性无机盐在25℃下为固体并为水溶性的，并且通过将50g所述酸性无机盐溶于1L离子交换水而制备的水溶液在25℃下的pH为4或更低。

3.根据权利要求1或2所述的制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，其包括在使用所述酸性无机盐的处理过程后通过加热或减压而移除导致气味的物质的过程。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，其中所述酸性无机盐为至少一种类型的包含硫酸氢根离子(HSO₄^-)和一价阳离子(M⁺)的酸性无机盐。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，其中所述酸性无机盐为至少一种类型的选自硫酸氢钠、硫酸氢钾和硫酸氢铵的酸性无机盐。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，其特征在于对于所述甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物，所述酸性无机盐的用量在100ppm至10,000ppm的范围内。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，其特征在于在存在水和/或亲水性介质的情况下执行使用所述酸性无机盐的处理过程。

8.一种制备甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物的方法，其特征在于以对应于100ppm至50,000ppm的量向通过根据权利要求1至7中任一项所述的方法获得的甘油衍生物改性有机硅或包含所述有机硅的组合物进一步添加碱性缓冲剂。