[发明专利]超导磁体的调整方法在审
申请号: | 201280071042.3 | 申请日: | 2012-03-01 |
公开(公告)号: | CN104135922A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 田边肇 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 干欣颖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超导 磁体 调整 方法 | ||
1.一种超导磁体的调整方法,该超导磁体的调整方法对由超导磁体(100)在规定空间(180)内产生的磁场的均匀性进行调整,其特征在于,包括:
对所述规定空间(180)中的磁场进行测定的步骤(S100);以及
在超导磁体(100)内配置强磁性体的多个垫片(250)来进行匀场的步骤(S110),
在所述进行匀场的步骤(S110)中,将多个所述垫片(250)配置于以下位置:即,在基于测定所述磁场的步骤(S100)的测定结果使磁场均匀的位置,且使因磁场而作用于多个所述垫片(250)的电磁力(410,420,500)为规定值的位置。
2.如权利要求1所述的超导磁体的调整方法,其特征在于,
在所述进行匀场的步骤(S110)中,将多个所述垫片(250)配置于以下位置:即,多个所述垫片(250)产生的所述电磁力中的、作用于所述超导磁体(100)的轴向上的电磁力(410,420)为规定值。
3.如权利要求1所述的超导磁体的调整方法,其特征在于,
在所述进行匀场的步骤(S110)中,将多个所述垫片(250)配置以下位置:即,多个所述垫片产生的所述电磁力中的、作用于所述超导磁体(100)的径向上的电磁力(500)为规定值。
4.如权利要求1至3的任一项所述的超导磁体的调整方法,其特征在于,
在所述进行匀场的步骤(S110)中,作为所述垫片使用铁制的垫片(250)。
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