[发明专利]补偿微光刻投射曝光系统的通道缺陷的设备及方法

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包含：

a.多个通道，每个通道引导部分光束，至少一个通道包含至少一个缺陷；及

b.至少一个光学元件，布置在具有所述至少一个缺陷的所述至少一个通道中，所述光学元件适配于至少部分补偿所述通道的部分光束的至少一个缺陷。

2.如权利要求1所述的照明系统，其中，所述至少一个缺陷包含所述至少一个通道中的所述部分光束的偏振变化。

3.如权利要求1或2所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件通过修改所述部分光束的偏振而至少部分补偿所述至少一个缺陷。

4.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件包含应变引致双折射，其至少部分补偿所述部分光束的偏振变化。

5.如权利要求4所述的照明系统，其中，所述应变引致双折射包含在所述光学元件的光学有关区外的光学元件区中引入局部持续修改的至少一个布置。

6.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，二维反射镜阵列的反射镜将通过所述至少一个光学元件的部分光束引向与预定目标光瞳一致的光瞳的外边缘。

7.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件的应变引致双折射包含具有固定方向的快轴。

8.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件的应变引致双折射在所述至少一个光学元件的光学有关区中包含1nm-10nm、较佳2nm-8nm、及最佳3nm-6nm的延迟。

9.如权利要求7或8所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件通过选择所述至少一个光学元件的快轴相对于所述通道中的所述部分光束的偏振的取向而最大化所述部分光束的偏振的修改。

10.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述照明系统适配于将至少一个第一通道和至少一个第二通道的部分光束叠加于单一斑点中，使得所叠加的光束的延迟补偿所述照明系统的延迟。

11.如权利要求10所述的照明系统，其中，所述至少一个第一通道的部分光束的偏振相对于所述至少一个第二通道的部分光束的偏振旋转预定量。

12.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个缺陷的补偿增加从所述照明系统出射的光束的优选状态下的强度。

13.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件适配于包含致动器，以在所述至少一个光学元件的光学有关区中引起应变。

14.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件适配于在所述照明系统操作期间动态插入所述至少一个通道中。

15.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件包含以不同固定快轴和/或不同延迟量制造的多个光学元件。

16.如权利要求15所述的照明系统，其中，所述多个光学元件适配于插入各具有缺陷的多个通道中，使得从所述照明系统出射的光束的优选状态下的强度最大化。

17.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件适配于包含偏振器，其将所述部分光束的偏振改变预定量。

18.如权利要求1-16所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件包含反射所述部分光束的反射镜。

19.如权利要求1-16所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件包含偏转所述部分光束的透镜。

20.如前述权利要求任一项所述的照明系统，其中，所述至少一个光学元件适配于包含具有用于至少两个通道的至少两个光学有关区的至少一个板，所述光学有关区布置在所述至少一个板的光学上无关的区域之间。

21.如权利要求20所述的照明系统，其中，所述至少两个光学有关区以一维行或二维矩形矩阵布置，所述至少两个光学有关区具有调整到所述部分光束的直径的直径，所述至少两个光学有关区具有调整到所述至少两个不同通道的部分光束之间的距离的距离。

22.如权利要求20或21所述的照明系统，其中，所述板包含至少两个光学有关区，其适配于补偿至少两个不同缺陷。