[发明专利]流动控制装置的设备、系统和方法

权利要求书

1.一种流动控制装置，包括：

管状构件，具有输送流体的内部通路；

外壳，设置为围绕所述管状构件且在所述外壳与所述管状构件之间形成室，其中所述外壳被分为控制室和阀室；

活塞，设置在所述控制室中且能够在第一活塞位置与从所述第一活塞位置位移的第二活塞位置之间移动，其中所述活塞将所述控制室分为第一部分和第二部分；以及

阀，设置在所述阀室中且能够在第一阀位置与从所述第一阀位置位移的第二阀位置之间移动，其中所述阀提供所述阀室的第一部分与所述阀室的第二部分之间选择性的流体连通，

其中所述活塞在所述第一活塞位置提供所述管状构件的内部通路与所述控制室之间的第一流动路径，以及

其中所述阀在所述第二阀位置提供所述管状构件的内部通路与所述阀室之间的第二流动路径。

2.如权利要求1所述的流动控制装置，还包括阀保持构件，其中所述保持构件包括剪切构件，所述剪切构件构造为响应施加到所述阀的第一压力而剪断。

3.如权利要求1所述的流动控制装置，还包括阀保持构件，其中所述保持构件包括J形槽机构，所述J形槽机构构造为响应施加到所述阀的第二压力以进行驱动。

4.如权利要求1所述的流动控制装置，其中，所述阀包括夹头和阀塞组件。

5.如权利要求1所述的流动控制装置，其中，所述阀包括活塞和凸缘组件。

6.如权利要求1所述的流动控制装置，还包括设置在所述控制室的第一部分的流动限制器，其中沿所述第一流动路径流经所述控制室的流体导致压降。

7.如权利要求1所述的流动控制装置，其中当所述阀设置在第二位置时，所述阀提供所述阀室的第一部分与所述阀室的第二部之间的流体连通。

8.如权利要求1所述的流动控制装置，其中，当所述活塞设置在第二位置且所述阀设置在第一位置时，所述活塞和所述阀提供对所述管状构件的内部通路的流体连通的密封。

9.一种控制流经管状构件的流体的流动控制装置，包括：

控制室，具有设置在其中的活塞，其中所述活塞能被施加第一流体压力以从开活塞位置移动到闭活塞位置；以及

阀室，其中具有阀，其中所述阀能被施加第二流体压力以从闭阀位置移动到开阀位置；

其中，在所述闭活塞位置形成阻止流体通过所述控制室流入所述管状构件的密封，以及

其中，在所述开阀位置形成通过所述阀室进入所述管状构件的流动路径。

10.如权利要求9所述的流动控制装置，还包括抑制构件，构造为响应所述第一流体压力而被所述活塞的移动驱动。

11.如权利要求9所述的流动控制装置，还包括抑制构件，构造为响应所述第二流体压力而被所述阀的移动驱动。

12.如权利要求9所述的流动控制装置，其中，在施加所述第一流体压力期间，所述阀形成对所述阀室的至少一部分与所述管状构件之间流动的流体的密封。

13.如权利要求9所述的流动控制装置，其中，通过所述控制室进入所述管状构件的第一流动路径产生第一压降，通过所述阀室进入所述管状构件的第二流动路径产生第二压降，并且所述第二压降小于所述第一压降。

14.如权利要求9所述的流动控制装置，其中，所述第二流体压力大于所述第一流体压力。

15.如权利要求9所述的流动控制装置，还包括设置在所述控制室中的流动限制器，其中所述流动限制器构造为提供螺旋流动路径。

16.如权利要求9所述的流动控制装置，还包括设置在所述控制室中的喷嘴。

17.一种控制进入管状构件的流动的方法，包括：

沿第一流动路径在所述管状构件的内部与地层之间提供流体连通；

响应第一压力以基本上密封所述第一流动路径；

响应第二压力以建立所述管状构件的内部与所述地层之间的第二流动路径；以及

沿所述第二流动路径在所述管状构件的内部与所述地层之间提供流体连通。