[发明专利]测量装置和成膜装置有效
申请号: | 201280073844.8 | 申请日: | 2012-09-10 |
公开(公告)号: | CN104350380B | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 佐井旭阳;日向阳平;大泷芳幸;姜友松 | 申请(专利权)人: | 株式会社新柯隆 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84;C23C14/24;C23C16/52;G01B11/06;G01N21/27 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,黄纶伟 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 装置 | ||
1.一种测量装置,所述测量装置针对形成于被测量用基板的薄膜,测量包括光学膜厚值在内的光学特性值,
所述测量装置的特征在于,
所述测量装置具备以下部分而同时测量多个所述光学特性值:
光信号产生机构,所述光信号产生机构具备利用光学滤光镜生成单色光的多个光源单元,所述光信号产生机构将该多个光源单元各自生成的单色光调制成对于每个光源单元互不相同的设定频率而发出多个光信号;
照射机构,所述照射机构对从该光信号产生机构发出的所述多个光信号进行复用而生成复用信号,并通过光纤向所述被测量用基板照射所述复用信号;
检测机构,所述检测机构在通过光纤接收到被该照射机构照射后由所述被测量用基板反射或透过所述被测量用基板的所述复用信号时,输出电信号作为检测信号;
信号分离机构,所述信号分离机构对该检测机构输出的所述电信号实施带通滤波器的滤波处理,由此从所述电信号中分离并提取与所述多个光信号分别对应的每个所述设定频率的成分信号;以及
计算机构,所述计算机构基于该信号分离机构从所述电信号中分离出来的每个所述设定频率的所述成分信号,按照每个所述设定频率计算出所述成分信号所表示的所述光学特性值。
2.一种测量装置,所述测量装置针对形成于被测量用基板的薄膜,测量包括光学膜厚值在内的光学特性值,
所述测量装置的特征在于,
所述测量装置具备以下部分而同时测量多个所述光学特性值:
光信号产生机构,所述光信号产生机构具备利用光学滤光镜生成单色光的多个光源单元,所述光信号产生机构将该多个光源单元各自生成的单色光调制成对于每个光源单元互不相同的设定频率而发出多个光信号;
照射机构,所述照射机构对从该光信号产生机构发出的所述多个光信号进行复用而生成复用信号,并通过光纤向所述被测量用基板照射所述复用信号;
检测机构,所述检测机构在通过光纤接收到被该照射机构照射后由所述被测量用基板反射或透过所述被测量用基板的所述复用信号时,输出电信号作为检测信号;
信号分离机构,所述信号分离机构从该检测机构输出的所述电信号中将与所述多个光信号分别对应的每个所述设定频率的成分信号分离出来;以及
计算机构,所述计算机构基于该信号分离机构从所述电信号中分离出来的每个所述设定频率的所述成分信号,按照每个所述设定频率计算出所述成分信号所表示的所述光学特性值,
所述信号分离机构具备锁定放大器,所述锁定放大器检测特定频率的信号并对该信号进行放大,通过将所述检测机构输出的所述电信号输入到该锁定放大器,所述信号分离机构从所述电信号中提取与所述多个光信号分别对应的每个所述设定频率的所述成分信号而进行放大。
3.根据权利要求1或2所述的测量装置,其特征在于,
在所述测量装置中还设置有数字信号处理器,所述数字信号处理器对从所述检测信号中分离出来的每个所述设定频率的所述频率成分信号分别实施放大处理,
所述计算机构基于所述放大处理后的所述成分信号来计算所述成分信号所表示的所述光学特性值。
4.一种成膜装置,所述成膜装置具备真空容器和蒸镀机构,其中所述真空容器收纳基板,所述蒸镀机构在该真空容器内利用电子束或等离子体将蒸镀材料蒸镀至所述基板,
所述成膜装置的特征在于,
所述成膜装置具备权利要求1至3中的任意一项所述的测量装置,
在所述真空容器内在所述基板上形成薄膜的期间,在所述真空容器内收纳有所述被测量用基板,所述蒸镀机构也将所述蒸镀材料蒸镀至所述被测量用基板,
在所述真空容器内在所述基板上形成薄膜的期间,所述测量装置在保持所述被测量用基板收纳于所述真空容器内的状态下,针对形成于所述被测量用基板侧的薄膜,同时测量多个包括光学膜厚值在内的光学特性值。
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