[发明专利]烧结磁铁及其制造方法在审
申请号: | 201280073914.X | 申请日: | 2012-06-13 |
公开(公告)号: | CN104380397A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 小室又洋;佐通祐一;今川尊雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | H01F1/08 | 分类号: | H01F1/08;H01F1/057;H01F41/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王永红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烧结 磁铁 及其 制造 方法 | ||
1.烧结磁铁,由NdFeB的主相和晶界相构成,其特征在于,
所述晶界相中具有氧氟化物,
所述氧氟化物含有的氟浓度从烧结磁铁表面到烧结磁铁中心沿深度方向减少,
所述氧氟化物含有的重稀土元素的浓度在所述烧结磁铁表面和所述烧结磁铁中心大致一定。
2.根据权利要求1所述的烧结磁铁,其特征在于,
以100×100μm2的面积检测的添加元素的浓度在所述烧结磁铁表面和所述烧结磁铁中心大致一定,
以10×10nm2的面积检测的添加元素的浓度,所述烧结磁铁表面一方比所述烧结磁铁中心高。
3.根据权利要求1或2所述的烧结磁铁,其特征在于,
所述添加元素为Al、Cu、Ti、Zr、Mn、Co、Sn、Si、Cr、V、Ga、Ge中的至少一种元素,所述添加元素偏在于所述晶界相。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的烧结磁铁,其特征在于,
所述氧氟化物含有的氟浓度以从所述烧结磁铁的表面沿深度方向100μm范围的区域中的平均值计超过33原子%。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的烧结磁铁,其特征在于,
所述氧氟化物含有立方晶或正方晶的晶体结构。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的烧结磁铁,其特征在于,
以0.1~5wt%的浓度范围含有氟化物的形成能比Cu小的金属元素。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的烧结磁铁,其特征在于,
所述烧结磁铁整体的氟含量为5原子%以下。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的烧结磁铁,其特征在于,
所述烧结磁铁整体的氧浓度为3000ppm以下。
9.烧结磁铁的制造方法,制造权利要求1~8中任一项所述的烧结磁铁,其特征在于,
使用解离性氟化剂将氟选择性地导入所述烧结磁铁的晶界相中。
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